[发明专利]一种大面积类金刚石化学气相沉积镀膜生产线

权利要求书

1.一种大面积类金刚石化学气相沉积镀膜生产线，其特征在于包括依次连接的进升降架、进初抽气室、进精抽室、进调气室、进过渡室、工艺室、出过渡室、出调气室、出精抽室、出初抽气室、出升降架、与工件架适配的工件回行轨道组成连续循环生产的运行回路，所述进初抽气室连接第一抽气系统；所述进精抽室第二抽气系统；所述进调气室连接第三抽气系统；进过渡室、工艺室以及出过渡室均与第四抽气系统连接；所述出调气室与第五抽气系统连接、出精抽室与第六抽气系统连接、所述出初抽气室与第七抽气系统连接。

2.根据权利要求1所述的大面积类金刚石化学气相沉积连续镀膜生产线，其特征在于：所述进初抽气室与所述出初抽气室均为初抽气室，所述初抽气室包括由翻板阀、腔体、腔门组成的与大气隔离的真空腔体并由螺母紧固于支架上；所述初抽气室还包括电机、传动杆，所述电机通过同步带和同步轮带动所述传动杆转动，所述传动杆通过同步带和同步轮带动传送系统的磁流体传动轴，将传动引入所述真空腔体，并驱动工件架在导向轮上运行；所述腔体的下部通过管道连接器与抽气系统相连通；所述抽气系统由机械泵通过电磁挡板阀连接罗兹泵组成两级抽气系统，所述罗兹泵经过气动挡板阀连接波纹管，再连接抽气管道，再与管道连接器连接，所述抽气管道上安置有真空检测放气装置；在腔门上设置有放气法兰，通过阀门控制放气。

3.根据权利要求1所述的大面积类金刚石化学气相沉积连续镀膜生产线，其特征在于：所述进精抽室、出精抽室、进调气室、出调气室、进过渡室以及出过渡室均为加工室，所述加工室由翻板阀、腔体、腔门组成与大气隔离的真空腔体并由螺母紧固于支架上；由电机通过同步带同步轮带动传动杆转动，再由传动杆通过同步带和同步轮带动传送系统的磁流体传动轴，将传动引入真空腔体，并驱动工件架在导向轮上运行；在腔体的底板上安装有高真空抽气的分子泵和工艺抽气管；所述分子泵和所述工艺抽气管均带有角阀并通过管道连接器与抽气系统相连通；所述腔门上设置有放气法兰，通过阀门控制放气。

4.根据权利要求1所述的大面积类金刚石化学气相沉积连续镀膜生产线，其特征在于：所述工艺室的数量为两个以上，每个工艺室依次连接，所述工艺室由工艺室腔体、工艺室腔门组成与所述进过渡室相连通的真空腔体并由螺母紧固于支架上；由电机通过同步带同步轮带动传动杆转动，再由所述传动杆通过同步带和同步轮带动磁流体传动轴，将传动引入真空腔体，并驱动工件架在导向轮上运行；所述腔门上依次布置有两个以上等离子源引入窗口，所述腔体上在每个等离子源引入窗口的相应位置布置有工艺气体导入口、工艺抽气管和分子泵；所述分子泵和所述工艺抽气管都带有角阀并通过管道连接器与第三抽气系统相连通。

5.根据权利要求1所述的大面积类金刚石化学气相沉积连续镀膜生产线，其特征在于：所述进过渡室、所述出过渡室和所述工艺室由分子泵抽气到极限真空低于5*10^-4Pa；停止分子泵，从工艺气体导入口通入工艺气体后控制工作真空范围1Pa-500Pa。

6.根据权利要求1所述的大面积类金刚石化学气相沉积连续镀膜生产线，其特征在于：所述进调气室和所述出调气室由分子泵抽气到极限真空低于5*10^-4Pa；停止分子泵，从工艺气体导入口通入工艺气体后控制工作真空范围1Pa-500Pa。

7.根据权利要求1所述的大面积类金刚石化学气相沉积连续镀膜生产线，其特征在于：所述进精抽室和所述出精抽室由分子泵抽气到极限真空低于5*10^-4Pa；停止分子泵，从工艺气体导入口通入工艺气体后控制工作真空范围8*10^-3Pa-5Pa；所述进初抽气室与所述出初抽气室由泵组将真空抽气到低于5Pa。

8.根据权利要求1所述的大面积类金刚石化学气相沉积连续镀膜生产线，其特征在于：所述工艺室的数量为3个，分别为依次连接的工艺室一、工艺室二、工艺室三，所述工艺室一与所述进过渡室连接，所述工艺室三与所述出过渡室连接。

9.根据权利要求1所述的大面积类金刚石化学气相沉积连续镀膜生产线，其特征在于：所述加工室和工艺室都安装有由加热器、加热反射板和加热挡板组成的加热系统，对工件架上的基片材料进行加热。

10.根据权利要求1所述的大面积类金刚石化学气相沉积连续镀膜生产线，其特征在于：适合于在大面积平板基材上采用线性等离子增强化学气相沉积(PECVD)金刚石薄膜；采用的线性等离子增强化学气相沉积特指为直流等离子增强化学气相沉积(DC-PECVD)、射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)和微波等离子增强化学气相沉积(WM-PECVD)。