[发明专利]用于铜铝复合排的抛磨装置在审

专利信息
申请号: 201510462831.5 申请日: 2015-08-01
公开(公告)号: CN105014545A 公开(公告)日: 2015-11-04
发明(设计)人: 董晓文;王连忠;兰占军 申请(专利权)人: 烟台孚信达双金属股份有限公司
主分类号: B24B55/06 分类号: B24B55/06;B24B55/12;B24B7/10
代理公司: 烟台双联专利事务所(普通合伙) 37225 代理人: 曲显荣
地址: 264100 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 用于 复合 装置
【说明书】:

技术领域

发明属于金属材料表面处理领域,具体地说涉及用于铜铝复合排的抛磨装置。

背景技术

目前,在实践生产中,对金属型材、棒材的使用规范中要求金属材料表面光洁、平整、无毛刺,但是一般型材、棒材的加工工艺均为轧制及拉拔,加工后会有轧制痕或拉拔痕,这样需要进行打磨和抛光处理后方可使用。目前生产用于金属材料表面处理的装置主要沿用铝板使用的抛磨机,主要存在以下问题:1)噪音较大;2)其抛磨方式大多为干抛,抛磨过程中产生很多粉尘,尤其是铜粉飞扬在车间中,污染环境,危害工人的身体健康;3)每次抛磨仅能加工一个侧面或平面,属于单工序单面加工,需要多次反复操作才能完成工件的表面处理,抛磨效率低,不适应大批量、连续生产。

发明内容

本发明为了解决上述现有的问题,而提供了一种用于铜铝复合排的抛磨装置。

本发明的技术方案是这样实现的:用于铜铝复合排的抛磨装置,包括机架和电气控制机构,机架上设有多个送进机构,前端的送进机构之间设有侧面抛磨机构,后端的送进机构之间设有平面抛磨机构,送进机构、侧面抛磨机构、平面抛磨机构之间设有水循环机构;

优选的,所述的送进机构包括设置在机架上的支架Ⅰ和限位装置,支架Ⅰ上设有压辊Ⅰ和托辊Ⅰ,压辊Ⅰ可在支架Ⅰ上滑动,压辊Ⅰ、托辊Ⅰ分别与上万向轴和下万向轴相连,上万向轴、下万向轴均与齿轮箱相连,齿轮箱通过联轴器Ⅰ与减速电机Ⅰ相连,限位装置与手轮Ⅰ相连;

优选的,所述的侧面抛磨机构包括安装在机架上的密闭箱Ⅰ,密闭箱Ⅰ上安有控制器Ⅰ,密闭箱Ⅰ内的支架Ⅱ上安有定位轮,定位轮与手轮Ⅲ相连,支架Ⅱ两端各安有压辊Ⅱ、托辊Ⅱ和压辊Ⅲ、托辊Ⅲ,支架Ⅱ上方设有千叶轮,千叶轮一端与螺旋齿轮换向器相连,另一端与密闭箱Ⅰ外的气缸相连,螺旋齿轮换向器通过联轴器Ⅱ与电机Ⅰ相连,千叶轮与手轮Ⅱ相连;

优选的,所述的平面抛磨机构包括安装在机架上的密闭箱Ⅱ,密闭箱Ⅱ上安有控制器Ⅱ和手轮Ⅳ,手轮Ⅳ与减速电机Ⅱ相连,密闭箱Ⅱ内的支架Ⅲ上安有压辊Ⅳ、压辊Ⅴ、托辊Ⅳ、托辊Ⅴ、托辊Ⅵ和从动辊,从动辊与主动辊通过砂带相连,主动辊通过密闭箱Ⅱ外的联轴器Ⅲ与电机Ⅱ相连;

优选的,所述的水循环机构包括与密闭箱Ⅰ、密闭箱Ⅱ底部的出水管相连的过滤水槽,过滤水槽与水泵连接,水泵与主水管相连,主水管上的进水管与密闭箱Ⅰ、密闭箱Ⅱ相连;

优选的,所述的电气控制机构包括电器控制柜、安装在密闭箱Ⅱ上的控制面板,控制面板包括总控制开关、水泵启动开关、水泵停止开关、气缸启动开关、气缸停止开关、送进启动开关、送进停止开关、平面抛磨机构启动开关、平面抛磨机构停止开关、侧面抛磨机构启动开关、侧面抛磨机构停止开关;

优选的,所述的送进机构包含一组及以上的子送进机构;

优选的,所述的侧面抛磨机构包含一组及以上的子侧面抛磨机构;

优选的,所述的平面抛磨机构包含一组及以上的子平面抛磨机构;

优选的,所述的过滤水槽为五级过滤水槽。

本发明的有益效果是:

1、在抛磨过程中,采用密闭箱体噪音很小,抛磨下来的铜粉在密闭箱内被水管中喷出的水带走,不易产生粉尘污染,保护工人的身体健康,同时水流将铜粉带入五级过滤水槽中,过滤后的水可以循环使用,而沉淀在水槽中的铜粉方便回收;

2、具有多功能性,可根据工件的不同加工要求,使用不同的加工及其组合,可对工件进行单工序侧面抛磨或平面抛磨,也可同时进行侧面抛磨和平面抛磨,降低不必要的能耗,工作效率高,操作方便,加工成本低,产品合格率高,便于大批量、连续化生产。

附图说明

图1是本发明的俯视结构示意图;

图2是本发明的子送进机构俯视结构示意图;

图3是本发明的子侧面抛磨机构俯视结构示意图;

图4是本发明的子平面抛磨机构主视结构示意图;

图5为本发明图4的A-A向剖面示意图;

图6为本发明图5的B-B向剖面示意图;

图7是本发明的电气控制机构的控制面板结构示意图。

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