[发明专利]纯水制造方法及纯水制造装置

权利要求书

1.一种纯水制造方法，其包含以下工序：

通过对导入到槽1中并从该槽1中送出的有机物浓度5～50μg/L的一次纯水照射紫外线将水中的有机物氧化分解的第1紫外线氧化工序，

通过使第1紫外线氧化工序的处理水通过混床式非再生型离子交换装置或电子去离子装置接触离子交换树脂而进行去离子，制造二次纯水，将该二次纯水的一部分返回到该槽1中的第1去离子工序，

通过对经过第1去离子工序的二次纯水的剩余部分照射紫外线将水中的有机物氧化分解的第2紫外线氧化工序，和

通过使第2紫外线氧化工序的处理水接触离子交换树脂而进行去离子，制造三次纯水，将该三次纯水的一部分返回到所述二次纯水中的第2去离子工序；

其特征在于：

在第1紫外线氧化工序中，以该第1紫外线氧化工序的处理水的有机物浓度成为1～10μg/L、H₂O₂浓度成为1～30μg/L的照射强度照射紫外线，

同时在第2紫外线氧化工序中，以该第2紫外线氧化工序的处理水的有机物浓度成为0.1～5μg/L、H₂O₂浓度成为1～20μg/L的照射强度照射紫外线。

2.根据权利要求1所述的纯水制造方法，其特征在于，在第1紫外线氧化工序与第2紫外线氧化工序之间以及第2紫外线氧化工序与第2去离子工序之间的至少一方中包含使水接触过氧化氢分解催化剂的过氧化氢分解工序。

3.根据权利要求2所述的纯水制造方法，其特征在于，在第1去离子工序中进行过氧化氢分解工序。

4.根据权利要求2所述的纯水制造方法，其特征在于，在第2过氧化氢分解工序与第2去离子工序之间包含将利用过氧化氢的分解所产生的溶解氧除去的脱氧工序。

5.一种纯水制造装置，其包含：

导入有机物浓度5～50μg/L的一次纯水的槽1、和对从该槽1中送出的一次纯水照射紫外线将水中的有机物氧化分解的第1紫外线氧化部件，

通过使第1紫外线氧化部件的处理水通过混床式非再生型离子交换装置或电子去离子装置接触离子交换树脂而进行去离子，制造二次纯水，将该二次纯水的一部分返回到所述槽1中的第1去离子部件，

通过对经过第1去离子部件的二次纯水的剩余部分照射紫外线将水中的有机物氧化分解的第2紫外线氧化部件，和

通过使第2紫外线氧化部件的处理水接触离子交换树脂而进行去离子，制造三次纯水，将该三次纯水的一部分返回到所述二次纯水中的第2去离子部件；

其特征在于：

在第1紫外线氧化部件中，以该第1紫外线氧化部件的处理水的有机物浓度成为1～10μg/L、H₂O₂浓度成为1～30μg/L的照射强度照射紫外线，

同时在第2紫外线氧化部件中，以该第2紫外线氧化部件的处理水的有机物浓度成为0.1～5μg/L、H₂O₂浓度成为1～20μg/L的照射强度照射紫外线。

6.根据权利要求5所述的纯水制造装置，其特征在于，在第1紫外线氧化工序与第2紫外线氧化工序之间以及第2紫外线氧化工序与第2去离子工序之间的至少一方中具有使水接触过氧化氢分解催化剂的过氧化氢分解部件。