[发明专利]离子注入装置及离子束的调整方法

权利要求书

1.一种离子注入装置，其特征在于，具备：

高频线性加速器，按照加速参数对所供给的离子进行加速；

能量分析磁铁，配设于所述高频线性加速器的下游；

能量分析狭缝组件，配设于所述能量分析磁铁的下游；

射束测量部，在所述能量分析狭缝组件的下游测量射束电流量；及

控制器，根据所给注入条件确定所述加速参数，

所述加速参数被确定为，使所述所供给的离子的至少一部分加速至目标能量，并且使通过所述射束测量部测量的射束电流量与目标射束电流量相当，

所述能量分析狭缝组件构成为可切换标准狭缝开口与高精度狭缝开口，所述标准狭缝开口用于在所述所给注入条件下进行的注入处理；所述高精度狭缝开口具有比所述标准狭缝开口高的能量精度，且为了调整所述加速参数而使用。

2.根据权利要求1所述的离子注入装置，其特征在于，

所述标准狭缝开口在与射束行进方向正交的横向具有第1狭缝宽度，

所述高精度狭缝开口在所述横向具有比所述第1狭缝宽度窄的第2狭缝宽度。

3.根据权利要求2所述的离子注入装置，其特征在于，

所述能量分析磁铁纵向生成使从所述高频线性加速器离开的离子偏转的磁场，

所述纵向与所述射束行进方向及所述横向正交。

4.根据权利要求2或3所述的离子注入装置，其特征在于，

所述标准狭缝开口及所述高精度狭缝开口在各自使用时在所述横向上被定位，以便具有所述目标能量的离子通过。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的离子注入装置，其特征在于，

所述高精度狭缝开口与所述标准狭缝开口独立形成，

所述能量分析狭缝组件构成为，可在所述标准狭缝开口与所述高精度狭缝开口中进行选择。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的离子注入装置，其特征在于，

所述能量分析狭缝组件具备可变狭缝，所述可变狭缝可从所述标准狭缝开口切换成所述高精度狭缝开口，以及从所述高精度狭缝开口切换成所述标准狭缝开口。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制器将被确定的加速参数作为与所述所给注入条件相关的最佳加速参数而存储于存储部。

8.根据权利要求7所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制器为了执行所述注入处理而从所述存储部读取所述最佳加速参数以设定到所述高频线性加速器。

9.根据权利要求7所述的离子注入装置，其特征在于，

所述高频线性加速器具备1个以上的高频谐振器，

所述控制器通过调整与所述高频谐振器不同的所述离子注入装置的至少1个构成要件，由此使调整射束电流量的自动安装程序在所述高频线性加速器按照所述最佳加速参数运转时执行。

10.根据权利要求9所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制器禁止所述自动安装程序中的所述能量分析狭缝组件的从所述标准狭缝开口到所述高精度狭缝开口的切换。

11.根据权利要求9所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制器禁止所述自动安装程序中的所述最佳加速参数的变更。

12.根据权利要求1至3中任一项所述的离子注入装置，其特征在于，

所述控制器进行如下控制：

使用所述高精度狭缝开口并通过所述射束测量部测量射束电流量，

以使所测量的射束电流量与按照所述加速参数的初始值而运转所述高频线性加速器时相比增加的方式调整所述加速参数。