[发明专利]微波加热设备和加热控制方法

权利要求书

1.一种微波加热设备，其特征在于，包括：

壳体和烹饪腔，所述壳体的内壁与所述烹饪腔的外壁之间形成容纳腔体；以及

所述容纳腔体内设置有磁控管、第一波导、半导体功率源、第二波导，其中，

所述磁控管通过所述第一波导与所述烹饪腔连接，以及所述第一波导用于将所述磁控管发射的微波传输到所述烹饪腔内，以作用于所述烹饪腔内放置的目标物；

所述半导体功率源通过所述第二波导与所述烹饪腔连接，所述第二波导用于将所述半导体功率源发射的扰动微波传输到所述烹饪腔内，与所述磁控管发射的微波共同作用于所述目标物，以对所述目标物进行均匀加热；

其中，所述半导体功率源具体用于：

在预设频率范围内按照预设频率扫描步长对所述磁控管发射的微波进行频率扫描，以及在预设相位范围内按照预设相位扫描步长对所述预设频率范围内的每一个频点进行相位扫描，以根据扫描结果调整所述烹饪腔内的微波分布；以及

所述半导体功率源上设置有天线，所述第二波导通过所述天线将所述半导体功率源发射的扰动微波传输到所述烹饪腔内。

2.根据权利要求1所述的微波加热设备，其特征在于，所述容纳腔体内还设置有：

高压电源，所述高压电源与所述磁控管电连接，用于为所述磁控管提供工作电压；

直流电源，所述直流电源与所述半导体功率源电连接，用于为所述半导体功率源提供工作电压。

3.根据权利要求2所述的微波加热设备，其特征在于，

所述烹饪腔内设置有支撑板，所述支撑板用于支撑所述目标物；以及

所述微波加热设备还包括：

搅拌片和搅拌电机，所述搅拌电机与所述搅拌片电连接，用于驱动所述搅拌片工作，以对所述磁控管发出的微波进行扰动，其中，所述搅拌片设置于所述烹饪腔内，且位于所述支撑板与所述烹饪腔的底壁之间形成的空间内，以及所述搅拌电机设置于所述容纳腔体中。

4.根据权利要求2所述的微波加热设备，其特征在于，还包括：

转盘和转盘电机，其中，

所述转盘设置于所述烹饪腔内，用于支撑所述目标物，以及所述转盘与设置于所述容纳腔体内的所述转盘电机电连接，以驱动所述转盘工作。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的微波加热设备，其特征在于，还包括：

所述预设频率扫描步长为：1MHz～5MHz；

所述预设相位范围为：0°～360°；

所述预设相位扫描步长为：1°～5°。

6.一种加热控制方法，用于控制如权利要求1至5中任一项所述的微波加热设备工作，其特征在于，所述加热控制方法包括：

在开启所述微波加热设备时，根据接收到的设置命令，设置所述磁控管按第一预设输出功率发射微波，以及同时设置所述半导体功率源按第二预设输出功率和第一工作频率发射扰动微波，以共同作用于所述烹饪腔内的所述目标物；

根据所述半导体功率源的所述第二预设输出功率和所述第一工作频率确定所述半导体功率源的目标工作频率；

将所述半导体功率源的所述第二预设输出功率调整为第三预设输出功率，并在以所述目标工作频率为中心频率的预设频率范围内，控制所述半导体功率源对所述烹饪腔内的所述微波进行频率扫描，以对所述目标物进行均匀加热；

统计所述频率扫描的持续时间，并在判定所述持续时间达到预设加热时间时，控制关闭所述微波加热设备，其中，所述第三预设输出功率大于所述第二预设输出功率。

7.根据权利要求6所述的加热控制方法，其特征在于，所述将所述半导体功率源的所述第二预设输出功率调整为第三预设输出功率，并在以所述目标工作频率为中心频率的预设频率范围内，控制所述半导体功率源对所述烹饪腔内的所述微波进行频率扫描，以对所述目标物进行均匀加热，具体包括：

控制所述半导体功率源在所述预设频率范围内按照预设频率扫描步长对所述烹饪腔内的所述微波进行频率扫描，以及在预设相位范围内按照预设相位扫描步长对所述预设频率范围内的每一个频点进行相位扫描。