[发明专利]太阳能电池的后加工设备有效

专利信息
申请号: 201510481460.5 申请日: 2015-06-17
公开(公告)号: CN105185865B 公开(公告)日: 2017-06-23
发明(设计)人: 李敬秀;崔珉浩;朴相昱;李真荧;郭界永 申请(专利权)人: LG电子株式会社
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司11127 代理人: 吕俊刚,刘久亮
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 太阳能电池 加工 设备
【权利要求书】:

1.一种太阳能电池的后加工设备,所述后加工设备执行包括用于对具有半导体基板的太阳能电池进行热处理、同时向所述太阳能电池提供光的主时段的后加工操作,所述后加工设备包括:

主区段,所述主区段用于执行所述主时段;以及

冷却区段,所述冷却区段用于执行用于冷却所述半导体基板的冷却时段,所述冷却时段在所述主时段之后执行,

其中所述主区段包括用于向所述半导体基板提供热量的第一热源单元以及用于向所述半导体基板提供光的光源单元,所述第一热源单元和所述光源单元位于所述主区段中,并且

所述光源单元包括由等离子体发光系统PLS构成的光源。

2.根据权利要求1所述的后加工设备,其中,由所述光源提供至所述半导体基板的光具有600nm至1000nm的波长。

3.根据权利要求1所述的后加工设备,其中,所述光源在其发光表面处设置有覆盖基板,所述覆盖基板包括基底基板和位于所述基底基板上的多个层,所述多个层包括具有不同折射率的氧化物。

4.根据权利要求1所述的后加工设备,其中,所述光源单元和所述第一热源单元在所述光源单元和所述第一热源单元彼此间隔开的状态下分别向所述半导体基板提供光和热。

5.根据权利要求1所述的后加工设备,所述后加工设备还包括:

温度上升区段,所述温度上升区段用于执行用于预备加热所述半导体基板的温度上升时段,所述温度上升时段在所述主时段之前执行,

其中,所述温度上升区段包括用于预备加热所述半导体基板的第二热源单元,所述第二热源单元位于所述温度上升区段中。

6.根据权利要求5所述的后加工设备,所述后加工设备还包括附加的热源单元,所述附加的热源单元位于所述温度上升区段的入口处,使得所述附加的热源单元与所述第二热源单元相对。

7.根据权利要求1所述的后加工设备,所述后加工设备还包括:

温度上升区段,所述温度上升区段用于执行用于预备加热所述半导体基板的温度上升时段,所述温度上升时段在所述主时段之前执行;

冷却区段,所述冷却区段用于执行用于冷却所述半导体基板的冷却时段,所述冷却时段在所述主时段之后执行;以及

传送带,所述传送带穿过所述温度上升区段、所述主区段以及所述冷却区段,并且所述太阳能电池放置在所述传送带上,

其中,基于直线式的处理来执行所述温度上升时段、所述主时段以及所述冷却时段。

8.根据权利要求7所述的后加工设备,所述后加工设备还包括划分壁单元,所述划分壁单元位于限定在所述温度上升区段与所述主区段之间的用于划分所述温度上升区段和所述主区段的空间、以及限定在所述主区段与所述冷却区段之间的用于划分所述主区段与所述冷却区段的空间的至少一个空间处。

9.根据权利要求7所述的后加工设备,其中,所述温度上升区段和所述冷却区段中的至少一个还包括与所述主区段相邻的附加的光源。

10.根据权利要求7所述的后加工设备,所述后加工设备还包括:

气帘组件,所述气帘组件位于所述温度上升区段的入口、限定在所述温度上升区段与所述主区段之间的空间、限定在所述主区段与所述冷却区段之间的空间、以及所述冷却区段的出口的至少一个处。

11.根据权利要求1所述的后加工设备,所述后加工设备还包括:

温度上升区段,所述温度上升区段用于执行用于预备加热所述半导体基板的温度上升时段,所述温度上升时段在所述主时段之前执行;以及

冷却区段,所述冷却区段用于执行用于冷却所述半导体基板的冷却时段,所述冷却时段在所述主时段之后执行,

其中,所述温度上升区段、所述主区段以及所述冷却区段具有在所述太阳能电池固定的状态下执行处理的批处理结构。

12.根据权利要求1所述的后加工设备,其中,所述太阳能电池放置在传送带或工作台上,并且

所述传送带或所述工作台具有网格结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG电子株式会社,未经LG电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510481460.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top