[发明专利]一种基于宽带受激辐射的纳米OCT成像方法及系统

权利要求书

1.一种基于宽带受激辐射的纳米OCT成像方法，其特征在于，该方法具体包括以下步骤：

1)开启激发光对样品进行照射，使样品处于激发状态；

2)开启激发光的同时开启损耗光；损耗光经过光束调制后形成横向中空型长焦光斑；损耗光照射到样品上，此时位于激发光斑外围位置上的激发态电子将通过受激辐射的方式回到基态，而处于激发光斑中心附近位置上的激发态电子将仍然留在激发态上；

3)关闭激发光和损耗光，开启探测光，将留在激发态上的电子通过受激辐射的方式送回基态；

4)受激辐射荧光与样品发生相互作用，形成后向散射信号；这些信号光再次入射到分光棱镜上，与从参考光路返回的参考光汇合并形成干涉，干涉光由快速光谱仪探测；通过分析干涉光谱在傅里叶域上的强度，便可以得到之前处于激发态电子的数量，继而表征出样品中荧光色团或非荧光色团的分布。

2.一种基于宽带受激辐射的纳米OCT成像系统，包括时序控制器、激发光源、损耗光源、光束调制模块、探测光源、平面反射镜、信号采集和处理模块和样品臂；样品臂包括二维扫描振镜和显微物镜；

其特征在于：激发光源出射的激发光束首先被导入第一单模光纤，之后依次通过第一准直透镜，以及平面镜反射进入样品臂；由损耗光源发出的损耗光束首先被导入第二单模光纤，由第二单模光纤出射的光束经第二准直透镜后进入光束调制模块；之后通过二向色镜及平面镜的反射进入样品臂；由探测光源出射的光束被导入第三单模光纤，然后经第三准直透镜准直，再通过分光棱镜后被分成两部分，其中透射光作为探测光，而反射光作为参考光；参考光通过聚焦透镜到平面反射镜，再被平面反射镜反射后再次入射到分光棱镜上；探测光依次被二向色镜和反射镜反射，进入样品臂；进入样品臂的激发光束、损耗光束和探测光束通过二维扫描振镜后，再经显微物镜聚焦，投射到样品上；来自样品的信号光被显微物镜收集，再次通过二维扫描振镜，之后被二向色镜反射，从而与激发光束和损耗光束分离；被二向色镜反射的后向散射信号光入射到分光棱镜上被反射，之后与透过分光棱镜的参考光形成干涉，并由信号采集和处理模块采集并处理；探测光源、损耗光源和激发光源均与时序控制器连接。