[发明专利]卷对卷制程设备及其系统

权利要求书

1.一种卷对卷制程设备(110)，适用于在一基板(100)上进行一化学反应，该基板(100)具有相对的一第一板面(104)及一第二板面(106)，其特征在于，该卷对卷制程设备(110)包括:

一反应槽(200)，设有一开口(202)，该反应槽(200)用以容置一化学药液(210)，该开口(202)提供该基板(100)的该第一板面(104)与该反应槽(200)内的该化学药液(210)接触；

一收卷单元(250)及一放卷单元(270)，分别对应设置于该反应槽(200)的相对两侧，该收卷单元(250)用以卷入该基板(100)，该放卷单元(270)用以卷出该基板(100)；以及

一加热装置(300)，设置于该收卷单元(250)与该放卷单元(270)之间且对应该反应槽(200)的该开口(202)，该加热装置(300)用以加热该基板(100)的该第二板面(106)，使该基板(100)升温并与该化学药液(210)产生该化学反应。

2.如权利要求1所述的制程设备，其特征在于，包含多个加压滚轮(260)，设置于该收卷单元(250)及该放卷单元(270)之间，以滚压该基板(100)。

3.如权利要求1所述的制程设备，其特征在于，包含两压合块(320)，分别设置于该反应槽(200)的该开口(202)两侧并邻近该基板(100)侧缘，该反应槽(200)两侧则包含与该压合块(320)相应设置的一沟槽(220)，该压合块(320)用以压制该基板(100)侧缘。

4.如权利要求1所述的制程设备，其特征在于，其中该加热装置(300)包含多个加热单元(310)，各加热单元(310)沿该基板(100)传动方向间隔排列设置。

5.如权利要求1所述的制程设备，其特征在于，其中该加热装置(300)包含红外线热管或微波振荡器，以热辐射方式均匀加热该基板(100)的该第二板面(106)。

6.如权利要求1所述的制程设备，其特征在于，其中该基板(100)包含可挠性金属基材、玻璃基材或塑料基材。

7.如权利要求1所述的制程设备，其特征在于，其中该化学反应为蚀刻制程、显影制程、脱膜制程或镀膜制程。

8.如权利要求7所述的制程设备，其特征在于，其中该镀膜制程为化学水浴制程。

9.一种卷对卷制程系统，适用于在一基板(100)上进行一化学反应，该基板(100)具有相对的一第一板面(104)及一第二板面(106)，其特征在于，该卷对卷制程系统包括:

一反应槽(200)，设有一开口(202)，该反应槽(200)用以容置一化学药液(210)，该开口(202)提供该基板(100)的该第一板面(104)与该反应槽(200)内的该化学药液(210)接触；

一收卷单元(250)及一放卷单元(270)，分别对应设置于该反应槽(200)的相对两侧，该收卷单元(250)用以卷入该基板(100)，该放卷单元(270)用以卷出该基板(100)；

一加热装置(300)，设置于该收卷单元(250)与该放卷单元(270)之间且对应该反应槽(200)的该开口(202)，该加热装置(300)用以加热该基板(100)的该第二板面(106)，使该基板(100)升温并与该化学药液(210)产生该化学反应；

一清洗装置(500)，设置在该收卷单元(250)及该放卷单元(270)之间，喷洒液体以清洗该基板(100)；以及

一烘干装置(700)，邻接于该清洗装置(500)，用以烘干该基板(100)。

10.如权利要求9所述的制程系统，其特征在于，包含两压合块(320)，分别设置于该反应槽(200)两侧并邻近该基板(100)侧缘，使该压合块(320)施压至该基板(100)侧缘，该反应槽(200)两侧则包含与该压合块(320)相应设置的一沟槽(220)。

11.如权利要求9所述的制程系统，其特征在于，其中该加热装置(300)包含多个加热单元(310)，各加热单元(310)沿该基板(100)传动方向间隔排列设置。

12.如权利要求9所述的制程系统，其特征在于，其中该化学反应为蚀刻制程、显影制程、脱膜制程或镀膜制程。