[发明专利]一种图案化石墨烯及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种图案化石墨烯的制备方法，其特征在于，所述制备方法为：在铜箔表面形成由石墨片组成的目标图案，之后，以石墨片为碳源加热生长得到具有目标图案的石墨烯；

其中，所述石墨片的尺寸为2～10微米，厚度为2～5纳米；

所述得到由石墨片组成的目标图案的方法为光学曝光法、纳米压印法、喷墨打印法或阴影掩膜法中的任意一种。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述生长的温度为900～1060℃。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述生长的温度为1000℃。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述生长的时间为1～2h。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述生长在氢气和氩气气氛下进行。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述石墨片通过电化学剥离天然石墨得到。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在铜箔表面形成由石墨片组成的目标图案具体为：将石墨片分散在溶剂中得到石墨片溶液，将石墨片溶液覆盖目标图案，干燥后，得到由石墨片组成的目标图案。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述石墨片溶液的浓度为1～2mg/mL。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述石墨片溶液的溶剂为乙醇、丙酮或异丙醇中的一种或至少两种的组合。

10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光学曝光法为：在铜箔上用光刻胶制作目标图案，将石墨片溶液旋涂到带有目标图案的铜箔上，干燥后，用丙酮将剩余光刻胶除去，即得到由石墨片组成的目标图案。

11.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述纳米压印法为：将具有目标图案的模板浸入石墨片溶液中，将模板上的目标图案转移到铜箔上，干燥后，即得到由石墨片组成的目标图案。

12.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述喷墨打印法为：将石墨片溶液作为墨水，结合打印系统在铜箔上直接打印出目标图案，经干燥，得到由石墨片组成的目标图案。

13.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述阴影掩膜法为：将具有目标图案的模板覆盖在铜箔上，之后将石墨片溶液涂满整个模板，再将模板去除，干燥，得到由石墨片组成的目标图案。