[发明专利]光学临近修正中的二维图形快速识别方法

权利要求书

1.一种光学临近修正中的二维图形快速识别方法，其特征在于包括：

光学强度法线采样步骤：在晶圆的图形边沿放置一系列法线方向采样点，并利用快速卷积算法，以获得法线方向采样点光学强度；

光学边界估算步骤：采用法线方向采样点光学强度对法线方向采样点做三次样条拟合，而且根据光学模型中光强反应临近值估计光学边界，随后在图形的光学边界处计算一阶差分，以估算图形边沿处的斜率；

光学强度切线采样步骤：在图形边沿放置一系列切线方向采样点，并利用快速卷积算法，以获得采样的切线采样点光强；

切线边界漂移估算步骤：计算每个切线采样点光强和参考点光强的差值，并且利用所述差值并根据所述光学边界估算步骤中估算出的斜率来估算切线漂移；

二维弯曲估算步骤：利用所述光学边界估算步骤中估计出的光学边界、以及所述切线边界漂移估算步骤中估算出的切向边界漂移，执行二维弯曲估算；所述二维弯曲估算步骤包括如下步骤：

以所述光学边界估算步骤中估计出的光学边界为参考点建立坐标系；

在所述坐标系下采用二次曲线拟合所述切线边界漂移估算步骤中估算出的切向边界漂移：Y＝aX^2+bX+c，其中，a、b、c为拟合参数；

利用拟合参数估算弯曲值Q：Q＝2a/(1+b^2)^(2/3)；

计算归一化参数K＝arctan(Q)/(pi/2)，作为表示二维弯曲估算的参数。

2.根据权利要求1所述的二维图形快速识别方法，其特征在于，所述二维弯曲估算步骤还包括：对归一化参数K加权，以修正图形的二维结构。

3.根据权利要求1所述的二维图形快速识别方法，其特征在于，K的值域为[0,1)。

4.根据权利要求1所述的二维图形快速识别方法，其特征在于，所述法线方向采样点的间距为10-20nm。

5.根据权利要求1所述的二维图形快速识别方法，其特征在于，所述法线方向采样点的个数为7-15个。

6.根据权利要求1所述的二维图形快速识别方法，其特征在于，所述切线方向采样点的间距为10-20nm。

7.根据权利要求1所述的二维图形快速识别方法，其特征在于，所述切线方向采样点的个数为3-5个。