[发明专利]CVD 腔室的流体控制特征结构

权利要求书

1.一种气体散布组件，包含：

上歧管，其包含：

多个第一穿孔，其形成为同心地绕着所述上歧管的中心部而设置的多个第一径向列；及

多个第二穿孔，其同心地绕着所述多个第一穿孔而设置且形成为多个第二径向列，其中所述多个第二穿孔设置在所述第一径向列的外围；

中心歧管，其连接到所述上歧管且包含：

多个第一开口，其同心地绕着所述中心歧管的中心部而设置；及

多个第二开口，其同心地绕着所述中心歧管的所述多个第一开口而设置；及

底歧管，其连接到所述中心歧管且包含：

多个第一开口，其同心地绕着所述底歧管的中心部而设置；

多个第二开口，其同心地绕着所述底歧管的所述多个第一开口而设置；

多个第二气体信道，其设置在所述底歧管的上侧的所述多个第二开口的各者之间；及

信道网络，其同心地绕着所述底歧管的所述多个第二开口而设置且流体地连接到所述多个第二气体信道的一或多个，

其中所述中心歧管的所述多个第一开口的每个设置成和所述多个第一径向列的一个相应，所述中心歧管的所述多个第二开口的每个设置成和所述多个第二径向列的一个相应，所述底歧管的所述多个第一开口的每个设置成和所述中心歧管的所述多个第一开口的一个相应，所述底歧管的所述多个第二开口的每个设置成和所述中心歧管的所述多个第二开口的一个相应，并且所述多个第二气体信道适于接触所述中心歧管的底表面，形成了密封的信道，并且与所述中心歧管的所述第一开口和所述第二开口隔离。

2.根据权利要求1所述的气体散布组件，其中，所述多个第二气体信道的每个还包括一或多个穿孔，所述一或多个穿孔设置在所述第二气体信道中且形成为穿过所述底歧管。

3.根据权利要求1所述的气体散布组件，还包括多个第一气体信道，其设置在所述底歧管的上侧的所述多个第一开口的各者之间。

4.根据权利要求1所述的气体散布组件，还包括：

背侧信道，其中所述背侧信道从外部源提供流体到中心间隙，所述流体经由所述中心歧管的中心穿孔被传送到所述底歧管的中心，其中多个内气体信道流体连通到所述底歧管的中心，且经由设置在所述多个内气体信道中的穿孔而流体连通至过程区域。

5.根据权利要求3所述的气体散布组件，其中，所述多个第一气体信道的各者还包括一或多个穿孔，所述一或多个穿孔设置在所述第一气体信道中且形成为穿过所述底歧管。