[发明专利]一种土石山区低干扰人工造林整地的方法有效

专利信息
申请号: 201510492573.5 申请日: 2015-08-12
公开(公告)号: CN105075792B 公开(公告)日: 2017-11-10
发明(设计)人: 余新晓;刘文娜;贾剑波;贾国栋;路伟伟;刘自强;孙佳美;赵娜;李瀚之;娄源海 申请(专利权)人: 北京林业大学
主分类号: A01G23/00 分类号: A01G23/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司11002 代理人: 郝瑞刚
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 土石 山区 干扰 人工 造林 整地 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及人工造林技术领域,特别是涉及一种华北土石山区低干扰人工造林整地的方法。

背景技术

人工造林是扩大森林资源,改善生态环境的重要途径之一。华北土石山区域内人工林质量普遍不高,森林防护效能低,涵养水源能力差,水土流失严重,生态系统结构紊乱、功能失调,生态环境十分脆弱。人工造林整地可以改善造林条件,在某种程度上更好地保持水土并且减少土壤的侵蚀,从而使造林的质量大大提高。目前人工造林整地方式包括局部整地和全面整地。其中的局部整地又是由块状整地和带状整地组成的。在山地带状的整地方法一般有水平阶、反坡梯田、水平沟、撩壕等,块状土地的整地方法有块状、穴状和鱼鳞坑。全面整地包括水平台式和全垦式造林整地。

现有技术中,华北土石山区人工林造林整地多采用水平阶、穴状、鱼鳞坑、水平台式等整地方法。

上述现有技术至少存在以下缺点:

对原有造林地生态环境破坏较大、干扰程度过高,导致造林初期水土流失严重,施工量大,费工费时,难以最大发挥人工林水土保持效益。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是如何降低对造林地干扰程度,减轻整地对林地水土流失的影响,并如何减少穴内土壤水分蒸发。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题,本发明提供一种土石山区低干扰人工造林整地的方法,其包括如下步骤:

S1、对选定的土石山区造林地进行初步调查:包括调查造林地地形条件、确定造林地的规格与造林面积、人工林密度与配置,调查造林地内灌木、杂草、伐根的生长状况;

S2、对所述造林地造林整地前进行林地清理:包括对不同生长状态的伐根进行局部挖除和改造、对不同生长状态和坡地不同位置的灌木、杂草进行割除或保留;

S3、对清理后的土石山区造林地进行与该造林地的坡面方向相反的小角度反坡造穴。

其中,S2中对于已经枯死的伐根,根据造林密度和植株行距配置,局部挖除;对于已经萌芽更新的伐根,根据造林密度进行改造,不全面挖除;对于造林地生长旺盛的灌木和杂草,根据造林密度和配置,进行局部割除,在不影响造林树种生长发育的前提下,尽量保存,以快速形成乔灌草混交的复层林结构,减轻土壤侵蚀。

其中,S3具体包括如下步骤:

S31、确定整地规格:在清理后的造林地的坡面进行小角度优选15度反坡挖出成行的穴状坑,每个穴状坑的坡面长40~50cm,宽30~40cm,高25~35cm;

S32、根据造林树种、造林密度和降水量确定,所述穴状坑的行沿等高线环山水平设置,行与行之间间隔3m~4m,每行相邻穴状坑之间间隔2m~3m,相邻行之间的穴状坑呈“品”字形排列,以最大限度减少地表径流,有利于穴面集水;

S33、生土回填:将挖出的生土回填在穴状坑外的下坡方向,培起5~10cm高的土埂,顶宽10~15cm,将土埂踩实,起遮荫和拦水作用。

(三)有益效果

与现有技术相比,本发明具有以下优点:

本发明提供的一种土石山区低干扰人工造林整地的方法,首先对选定的华北土石山区造林地进行初步调查,包括调查造林地地形条件、确定造林地的规格与造林面积、人工林密度与配置、调查造林地内灌木、杂草、伐根的生长状况等,从宏观上把握造林地的立地条件以及人工林密度配置等;对造林地造林整地前进行林地清理:包括对不同生长状态的伐根进行局部挖除和改造、对不同生长状态和坡地不同位置的灌木杂草进行割除和保留,最大限度地维持当地生态环境,防止因林地清理而引起的土壤侵蚀和水土流失;进行小角度反坡穴状造林整地,一方面降低对造林地干扰程度,进一步减轻整地对林地水土流失的影响,另一方面可以减少穴内土壤水分蒸发,收集上坡位地表径流,达到抗旱保墒,保持水土的作用。

附图说明

图1为本发明实例提供的土石山区低干扰人工造林整地的侧视图;

图2为本发明实例提供的土石山区低干扰人工造林整地的平面图。

图中:1:造林地的坡面;2:反坡面;3:土埂;4:穴状坑。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。

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