[发明专利]一种在陶瓷基板上制作针栅阵列的工艺方法有效

专利信息
申请号: 201510493261.6 申请日: 2015-08-13
公开(公告)号: CN105185721B 公开(公告)日: 2018-01-30
发明(设计)人: 周冬莲;王啸;何中伟;金龙 申请(专利权)人: 中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L23/488;H01L23/49
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司32224 代理人: 耿英,董建林
地址: 215163 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 陶瓷 基板上 制作 阵列 工艺 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及制作针栅阵列的工艺方法,尤其涉及一种在陶瓷基板上制作针栅阵列的工艺方法。

背景技术

针栅阵列(PGA)封装技术是微电子封装技术的一个分支,传统的芯片封装为周边引线结构,PGA封装是面阵引线结构。其优点是:

1)比传统封装具有更多的I/O数目以及更低的引线电感、电容和信号燥声;

2)能够实现一体化气密性封装结构,具有高可靠性,常用于高可靠和高端领域。

目前,行业中PGA封装引线制作方法采用Au基焊料膏材料和带式钎焊炉实现。其手段类似常规的SMT工艺。缺点是:

1)Au基焊料膏材料货源紧缺,市场采购困难;

2)Au基焊料膏适合大批量产品加工,对于中小批量产品加工,材料成本过高;

3)带式钎焊炉焊接环境控制难度高,焊接周期长,焊接质量难以满足要求。因此,到目前为止,PGA引线可靠性仍是行业技术人员需要解决的棘手难题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷,提供一种在陶瓷基板上制作针栅阵列的工艺方法。

为解决上述技术问题,本发明提供一种在陶瓷基板上制作针栅阵列的工艺方法,其特征是,包括以下步骤:

采用厚膜成膜或低温共烧陶瓷制作PGA基板;

采用Au基共晶焊料片作为针式引线焊接材料;

选用可伐镀金材料作为针式引线材料;

采用真空共晶焊方法实现针式引线与PGA基板的焊接。

PGA基板为成膜基板或LTCC基板。

在PGA基板上还焊接有焊盘,焊接步骤如下:

a1)将焊料片通过手工或自动粘片的方法放置到PGA基板上的焊区;

a2)在焊料片上压上一陶瓷压片;

a3)带有焊料片的PGA基板及陶瓷压片一同放置到真空共晶焊炉内的加热板上,PGA基板接触真空共晶焊炉的加热板;

a4)按照设置的共晶焊接曲线进行焊接,在PGA基板的焊盘上形成一层共晶焊料层。

针式引线与PGA基板的焊接步骤如下:

b1)将针式引线依次插入石墨定位槽中阵列排列的引线导孔中;

b2)将已上共晶焊料层的PGA基板压入插好针式引线的石墨定位槽中,PGA基板上的焊盘一一对应地顶住各针式引线的钉头,形成焊接组件;

b3)将焊接组件放置在真空共晶焊炉内的加热板上,PGA基板面与加热板接触;

b4)在石墨顶面加上加压压块;

5)按照设置的共晶焊接曲线进行焊接,使针式引线焊接到PGA基板上。

所述共晶焊接曲线包括以下几个阶段:

①时间t1~t2阶段:在室温环境下,抽真空、充氮气;

② 时间t2~t5阶段:以45℃/min的速率升温至温度T3,且从温度T2开始抽真空后再加甲酸;其中,T3>T2>室温;

③ 时间t5~t6阶段:在温度T3下保温60s~90s;

④ 时间t6~t7阶段:以45℃/min的速率升温至温度T4,T4>T3;

⑤ 时间t7~t8阶段:在温度T4和充甲酸环境下保温60s~120s;

⑥ 时间t8~t9阶段:抽真空并保温60s~120s;

⑦ 时间t9~t10阶段:充氮气,冷却至室温。

温度T2=150℃~170℃。

温度T3=焊料片共晶点-(20℃~30℃)。

其特征是,温度T4=焊料共晶点+(30℃~50℃)。

本发明所达到的有益效果:

1)工艺简单,灵活,材料成本较低,适合小批量产品加工;

2) 焊接层连接强度高;

3) 焊接层电阻、热阻都很小,导电性好、导热快;

4) 环境适应性好,耐机械疲劳和冷热疲劳,抗蠕变,长期可靠性高。

附图说明

图1是本发明的工艺流程图;

图2是工艺操作示意图;

图3是共晶焊接曲线图;

图4是共晶焊夹具示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。

1技术方案,如图1所示,

1)采用厚膜成膜或低温陶瓷共烧(LTCC)制作PGA成膜基板;

2)采用Au基共晶焊料片(焊片)作为针式引线焊接材料;

3)选用可伐镀金材料作为针式引线材料;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心,未经中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510493261.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top