[发明专利]工序监视装置及工序监视方法

权利要求书

1.一种工序监视装置，监视通过蚀刻而在薄膜状的基材上形成图案时的 工序，其特征在于包括：

第一图像获取部，将如下图案图像作为获取候选而获取所述获取候选中 的一个图案图像作为第一图案图像，所述图案图像为呈现对形成在基材的主 表面上的抗蚀剂层进行曝光工序后且显影工序前的所述抗蚀剂层的感光图案 的图案图像、呈现所述显影工序后的抗蚀剂图案的图案图像、呈现对形成有 所述抗蚀剂图案的所述主表面进行蚀刻工序后且抗蚀剂剥离工序前的所述主 表面的图案图像、及呈现所述抗蚀剂剥离工序后的所述主表面的图案的图案 图像；

第二图像获取部，获取所述获取候选中的另一个图案图像作为第二图案 图像；及

缺陷检测部，对所述第一图案图像与所述第二图案图像进行比较，由此 检测通过在所述第一图案图像的获取与所述第二图案图像的获取之间进行的 工序而产生的缺陷。

2.根据权利要求1所述的工序监视装置，其特征在于：

所述第一图案图像呈现所述抗蚀剂层的所述感光图案。

3.根据权利要求2所述的工序监视装置，其特征在于，

所述第一图像获取部包括：

光照射部，出射相对于所述抗蚀剂层具有透过性、并且不包含在所述抗 蚀剂层的感光波段的波长的光；

线传感器，接收来自被照射所述光的线状的摄像区域的光；

移动机构，使所述基材向与所述摄像区域交叉的方向相对于所述摄像区 域而相对性地移动；及

角度变更机构，一面将从所述光照射部至所述摄像区域的光轴与所述抗 蚀剂层的法线所成的照射角，与从所述摄像区域至所述线传感器的光轴与所 述法线所成的检测角维持于相等，一面变更所述照射角及所述检测角。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的工序监视装置，其特征在于还包 括第三图像获取部，获取所述获取候选中的又一个图案图像作为第三图案图 像，

且所述工序监视装置依序获得所述第一图案图像、所述第二图案图像及 所述第三图案图像，

所述缺陷检测部对所述第二图案图像与所述第三图案图像进行比较，由 此检测通过在所述第二图案图像的获取与所述第三图案图像的获取之间进行 的工序而产生的缺陷。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的工序监视装置，其特征在于：

对带状的所述基材的长度方向的各部位，连续地进行所述显影工序、所 述蚀刻工序及所述抗蚀剂剥离工序。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的工序监视装置，其特征在于：

所述基材为透明，且所述基材的所述主表面为成为透明电极的膜的表面。

7.一种工序监视方法，监视通过蚀刻而在薄膜状的基材上形成图案时的 工序，其特征在于包括如下步骤：

a)将如下图案图像作为获取候选而获取所述获取候选中的一个图案图像 作为第一图案图像，所述图案图像为呈现对形成在基材的主表面上的抗蚀剂 层进行曝光工序后且显影工序前的所述抗蚀剂层的感光图案的图案图像、呈 现所述显影工序后的抗蚀剂图案的图案图像、呈现对形成有所述抗蚀剂图案 的所述主表面进行蚀刻工序后且抗蚀剂剥离工序前的所述主表面的图案图 像、及呈现所述抗蚀剂剥离工序后的所述主表面的图案的图案图像；

b)获取所述获取候选中的另一个图案图像作为第二图案图像；及

c)对所述第一图案图像与所述第二图案图像进行比较，由此检测通过在 所述第一图案图像的获取与所述第二图案图像的获取之间进行的工序而产生 的缺陷。

8.根据权利要求7所述的工序监视方法，其特征在于：

所述第一图案图像呈现所述抗蚀剂层的所述感光图案。