[发明专利]一种坡面水量平衡场观测装置及应用该装置的观测方法在审
申请号: | 201510498526.1 | 申请日: | 2015-08-13 |
公开(公告)号: | CN105116128A | 公开(公告)日: | 2015-12-02 |
发明(设计)人: | 余新晓;孙佳美;贾国栋;贾剑波;李瀚之;侯沛轩;赵娜;路伟伟;刘自强;白艳婧 | 申请(专利权)人: | 北京林业大学 |
主分类号: | G01N33/24 | 分类号: | G01N33/24 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 郝瑞刚 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 水量 平衡 观测 装置 应用 方法 | ||
技术领域
本发明涉及土壤侵蚀和森林水文学技术领域,特别是一种能够观测坡面水量平衡过程的坡面水量平衡场观测装置及应用该装置的观测方法。
背景技术
水量平衡是水文现象和水文过程分析研究的基础,也是水资源数量和质量计算及评价的依据。坡面水量平衡场是研究自然降雨条件下坡面的水量平衡过程和土壤侵蚀过程的常用方法。传统的研究方法是建立径流试验小区,其设计原理是模拟自然坡面,通过集流槽收集坡面的径流以及泥沙,从而研究自然降雨条件下坡面的水文过程与土壤侵蚀过程。传统的径流小区主要由两部分组成,试验坡面和集流系统,试验坡面是将坡面四周用垂直埋入地下的水泥板或其他挡流设施将坡面独立开来,确保不与周围发生水分交换,并在底部设置集流槽,用来收集坡面产生的径流;另一部分是集流系统,根据当地的降雨量以及产流量,采用砖砌或铁皮设计制作集流系统用来储存坡面产生的径流。
然而,传统的径流小区在实际工作工程中存在诸多不足,其一,传统的坡面径流小区通过集流槽只能收集坡面在降雨过程中产生的径流和泥沙,但土壤的入渗过程以及壤中流过程不能观测出来,这就直接导致坡面的水量平衡过程不能得到验证,不能满足部分实验要求;其二,为了防止大、暴降雨产生的径流在集流系统中不外溢,常需建造一级或多级分流等庞大的分流设施,这不仅增加了工程成本,而且排水清沙工作费工费时。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是传统的坡面径流小区不能观测出来土壤的入渗过程以及壤中流过程,且为了径流在集流系统中不外溢,常需建造一级或多级分流等庞大的分流设施,不仅增加了工程成本,而且排水清沙工作费工费时。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种坡面水量平衡场观测装置,其包括:隔离边墙、集水槽、挡墙及收集装置;所述隔离边墙设置于坡面的基岩面上,所述集水槽对应于所述隔离边墙设置,所述挡墙内分别设置有表层导流管及壤中导流管,所述表层导流管对应于所述集水槽设置,所述表层导流管及壤中导流管均与所述收集装置连通。
优选地,所述壤中导流管包括第一壤中导流管及第二壤中导流管,所述第一壤中导流管设置于所述表层导流管与所述第二壤中导流管之间。
优选地,还包括分别对应于所述第一壤中导流管及第二壤中导流管设置的钢板。
优选地,所述收集装置包括与所述表层导流管连通的径流泥砂池,及与所述壤中导流管连通的蓄水池。
优选地,所述集水槽上设置有槽盖。
优选地,所述槽盖的材质为不锈钢。
优选地,坡面上对应于所述隔离边墙设置有排水沟。
优选地,所述集水槽与所述表层导流管之间设置有过滤网。
本发明还提供了一种应用如上所述的坡面水量平衡场观测装置的观测方法,其特征在于,具体步骤为:
S1、在坡面的基岩面上设置有隔离边墙,隔离边墙围成隔离径流小区;
S2、将挡墙内的表层导流管及壤中导流管与观测室内的收集装置连通。
优选地,所述观测室上设置有防渗层。
(三)有益效果
本发明的上述技术方案具有如下优点:本发明提供的坡面水量平衡场观测装置中的隔离边墙设置于坡面的基岩面上,集水槽对应于隔离边墙设置,挡墙内分别设置有表层导流管及壤中导流管,表层导流管对应于集水槽设置,表层导流管及壤中导流管均与收集装置连通。本发明提供的坡面水量平衡场观测装置中挡墙内设置有表层导流管及壤中导流管,能够对土壤壤中流分层观测,能够很好的验证水量平衡方程,实现对坡面水量过程全面的观测;具有结构简单、观测方便等优点。
附图说明
图1是本发明实施例的坡面水量平衡场观测装置的俯视图;
图2是本发明实施例的坡面水量平衡场观测装置的剖视图。
图中:1:排水沟;2:隔离边墙;3:集水槽;4:挡墙;5:表层导流管;6:第一壤中导流管;7:第二壤中导流管;8:径流泥砂池;9:观测室;10:基岩面;11:钢板;12:蓄水池。
具体实施方式
在本发明的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上;术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的机或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
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