[发明专利]一种双离子掺杂氧化铈缓冲层及其制备方法

权利要求书

1.一种双离子掺杂氧化铈缓冲层，其特征在于，该缓冲层的化学组成为：(Ce_0.8Gd_0.2)_1-xR_xO_y，其中x的取值为0.01～0.2，R为Zr或Mn；

该缓冲层的制备方法为：

步骤一、将铈的有机盐、钆的有机盐和R的有机盐按照Ce:Gd:R＝0.8(1-x):0.2(1-x):x的摩尔比溶解于丙酸中，得到金属离子摩尔浓度为0.1mol/L～1mol/L的前驱液；

步骤二、采用旋涂的方式将步骤一中所述前驱液涂敷于NiW金属基带上，然后将涂敷有前驱液的NiW金属基带置于管式炉中，在还原性气氛保护下，以20℃/min～200℃/min的升温速率将管式炉的炉内温度升至950℃～1050℃，保温热处理0.5h～1h，随炉冷却后在NiW金属基带表面得到(Ce_0.8Gd_0.2)_1-xR_xO_y缓冲层。

2.按照权利要求1所述的一种双离子掺杂氧化铈缓冲层，其特征在于，所述R为Zr或化合价为正四价的Mn时，y＝1.9+0.1x。

3.按照权利要求1所述的一种双离子掺杂氧化铈缓冲层，其特征在于，所述x的取值为0.04～0.1。

4.按照权利要求3所述的一种双离子掺杂氧化铈缓冲层，其特征在于，所述x的取值为0.05。

5.一种制备如权利要求1～4中任一权利要求所述双离子掺杂氧化铈缓冲层的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、将铈的有机盐、钆的有机盐和R的有机盐按照Ce:Gd:R＝0.8(1-x):0.2(1-x):x的摩尔比溶解于丙酸中，得到金属离子摩尔浓度为0.1mol/L～1mol/L的前驱液；

步骤二、采用旋涂的方式将步骤一中所述前驱液涂敷于NiW金属基带上，然后将涂敷有前驱液的NiW金属基带置于管式炉中，在还原性气氛保护下，以20℃/min～200℃/min的升温速率将管式炉的炉内温度升至950℃～1050℃，保温热处理0.5h～1h，随炉冷却后在NiW金属基带表面得到(Ce_0.8Gd_0.2)_1-xR_xO_y缓冲层。

6.按照权利要求5所述的方法，其特征在于，步骤一中所述铈的有机盐为乙酸铈或丙酸铈，所述钆的有机盐为乙酸钆或丙酸钆，所述R的有机盐为乙酰丙酮锆、乙酸锰或乙酰丙酮锰。

7.按照权利要求5所述的方法，其特征在于，步骤二中所述旋涂的转速为1000rpm～6000rpm，旋涂的时间为10s～60s。

8.按照权利要求5所述的方法，其特征在于，步骤二中所述还原性气氛为氩气与氢气的混合气氛，所述混合气氛中氢气的体积百分含量为0.1％～4％。