[发明专利]一种高温珐琅表盘的矫形组件及使用其矫形的矫形方法有效
申请号: | 201510507535.2 | 申请日: | 2015-08-18 |
公开(公告)号: | CN105112916B | 公开(公告)日: | 2017-11-10 |
发明(设计)人: | 袁军平;王昶;吴海超;黄宇亨 | 申请(专利权)人: | 广州番禺职业技术学院 |
主分类号: | C23D11/00 | 分类号: | C23D11/00 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 | 代理人: | 胡辉 |
地址: | 511483 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高温 珐琅 表盘 矫形 组件 使用 方法 | ||
技术领域
本发明涉及珐琅工艺领域,特别是涉及一种高温珐琅表盘的矫形组件及使用其矫形的矫形方法。
背景技术
珐琅是一门将釉料附着在金属表面烧制的工艺,将一种玻璃质的釉附着在金属表面而制成的工艺品叫做珐琅器。这种釉料主要都是以石英、长石、硝石和碳酸钠等加上铅和锡等氧化物烧制而成。因其由矿物质熔炼而成,具备矿物质不透气、不会渗水等性能以及质地坚硬的优点,并具有宝石般的独特光泽与透明感,最重要的是这种材质历久弥新、不会氧化褪色。即使经过上百年,珐琅明亮的色彩也不会退却。因此,珐琅工艺也被当作高档装饰工艺应用于钟表产品上,尤其是用来制作表盘。珐琅表盘是集装饰性和功能性于一体的钟表配件,一方面,通过高温烧制珐琅工艺获得良好的装饰艺术效果;另一方面,珐琅表盘需要能满足钟表装配要求。
目前,珐琅工艺主要应用在有较大体量、对变形控制要求不严的金属工艺品上,然而对于应用在表盘上则面临着极高的技术难度,因为制作过程中要经过掐丝、焊接、填釉、烧制、打磨、抛光、电镀等多道工序,每道工序内又存在多个环节,几乎每一步都可能出现问题,稍不小心可能导致整个制作工程前功尽弃。在艺术效果方面,每一步都有可能出现釉面断裂,或颜色发生变化的危险。除要求珐琅面的艺术效果外,还必须满足装配要求,尤其是机械表,对表盘的直径、平面度、卡脚、中心孔等都有非常严格的尺寸公差要求。通常的手表表盘都是利用冲压成型的,可以较好地满足装配要求。但是,由于珐琅表盘是在高温下烧制而成的,而它的厚度又非常薄,在烧制过程中难免产生变形,最常见的变形就是表盘面产生大的挠曲,导致表针装不下去,或者表针与表盘面卡在一起。出现变形时必须回炉重烧后再整形。由于珐琅是非常脆的玻璃质,只有在其处于高温塑性阶段才能整形,一旦温度降至弹性区和刚性区,就不能再整形,否则必然导致珐琅面破裂。出现珐琅面破裂时,只有再回炉重烧,经过多次反复,珐琅面的颜色和透亮度将明显劣化,影响其装饰效果。正是由于这种突出的技术难度,高温珐琅表盘的生产过程往往难以遇见和稳定,每获得一件成功的作品,可能要面临数倍的废品。为此,行业内出现了以环氧树脂和色料在60℃~70℃固化的所谓“冷珐琅”表盘,它不会发生变形,也可以形成多种色彩效果,但是表面的光泽度和耐候性与真正的高温珐琅相去甚远。
以往在制作高温珐琅表盘时,由于表盘的结构设计不够合理,导致烧制过程中表盘的变形量过大,而使用的整形手段又非常简陋,一般采用如下方法:先将表盘从高温炉中取出,将其放置在钢块上,再将另一块钢块压在珐琅表盘上,用手或手动压力机压在上面的钢块上。这种方法的效果很差,因为表盘很薄,放到钢块上时散热非常快,当对上钢块加压时,表盘的温度已经降低了,很容易将珐琅面压裂。而且对于表盘中心的凸起变形,采用这种方法时,即使操作迅速流畅,整平的效果也是不好的。一般从高温炉内将表盘取出后放在一块钢板上,再拿另一块钢板去压平,期间要经历不短的时间,珐琅面很快降温,整形效果很差,废品率很高。因此,亟待一种提高整平效果的高温珐琅表盘的矫形组件及使用其矫形的矫形方法。
发明内容
为解决上述问题,本发明提供一种减少烧制变形量、缩短工序并能提高表盘整平效果的高温珐琅表盘的矫形组件及使用其矫形的矫形方法。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种高温珐琅表盘的矫形组件,包括烧制珐琅表盘时用于托住表盘的表盘托架及用于表盘矫形的矫形胎具,矫形胎具包括承接座、大压头和小压头,承接座的中部设有用于夹持的夹持位,夹持位的上面设有表盘底座及下面设有中心底座,表盘底座表面设有用于放置珐琅表盘的上放置位,中心底座的表面设有用于放置珐琅表盘的下放置位, 上放置位和大压头相配合用于珐琅表盘矫形,下放置位和小压头相配合用于珐琅表盘中心区域矫形。
进一步作为本发明技术方案的改进,在上放置位和下放置位内均可设置依据珐琅表盘尺寸进行更换的调节圈,调节圈与上放置位和下放置位配合均为间隙配合。
进一步作为本发明技术方案的改进,在中心底座的中心处设有小孔,在表盘底座的中心处设有大孔,小孔和大孔与夹持位的中心连通。
进一步作为本发明技术方案的改进,夹持位为一中空的柱筒,大孔直径等于柱筒内壁直径。
进一步作为本发明技术方案的改进,上放置位为一凹槽设于表盘底座内,下放置位为一凹槽设于中心底座内,表盘底座及中心底座的最大外径大于夹持位的最大外径。
进一步作为本发明技术方案的改进,表盘托架包括底座及在底座上均匀设置的若干支撑爪,支撑爪的顶端为同在一平面并保证平面度的接触点。
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