[发明专利]基于45°光纤的非本征型光纤珐珀声压传感器及加工方法有效

专利信息
申请号: 201510508642.7 申请日: 2015-08-19
公开(公告)号: CN105067102B 公开(公告)日: 2017-11-14
发明(设计)人: 金鹏;刘彬;刘欢;王健 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G01H9/00 分类号: G01H9/00
代理公司: 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙)23209 代理人: 张伟
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 基于 45 光纤 声压 传感器 加工 方法
【权利要求书】:

1.基于45°光纤的非本征型光纤珐珀声压传感器,包括一个硅支撑结构(1),一根从硅支撑结构(1)侧面贴靠底部插入的研抛端面为45°的光纤(2),设置在硅支撑结构(1)顶部的声压敏感薄膜(3),硅支撑结构(1)与声压敏感薄膜(3)构成珐珀腔;其特征在于,所述的声压敏感薄膜(3)为银薄膜,银薄膜内切圆直径与厚度的比值大于1000;所述的声压敏感薄膜(3)的厚度小于1微米,内切圆直径大于1000微米。

2.权利要求1所述基于45°光纤的非本征型光纤珐珀声压传感器的加工方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤a、加工设置有光纤插口的硅支撑结构(1);包括以下步骤:

步骤a1、加工侧壁带有豁口的底座(11),所述豁口作为硅支撑结构(1)的光纤插口,能够使光纤(2)穿过;

步骤a2、加工能够与底座(11)配合的支座(12);

所述的步骤a1和步骤a2同步进行或按任意先后顺序;

步骤a3、按照支座(12)在上,底座(11)在下的顺序,将支座(12)与底座(11)键合,得到硅支撑结构(1);

步骤b、在基座(4)上表面旋涂正性光刻胶(5),通过电子束沉积、热蒸发或磁控溅射方法,在正性光刻胶(5)上表面沉积声压敏感薄膜(3);

所述的步骤a和步骤b同步进行或按任意先后顺序进行;

步骤c、将硅支撑结构(1)顶端与声压敏感薄膜(3)粘贴在一起;

步骤d、利用能够溶解正性光刻胶(5)的溶剂溶解正性光刻胶(5);

步骤e、将光纤(2)从光纤插口插入,调整光纤(2)的研抛端面与硅支撑结构(1)底面成45°角;利用六轴微位移台控制光纤(2)的插入距离和旋转角度,确保光纤(2)的研抛端面与硅支撑结构(1)底面成45°角;

步骤f、用环氧胶(6)将硅支撑结构(1)的光纤插口密封。

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