[发明专利]一种单晶颗粒薄膜及其无衬底柔性太阳能电池的制备方法

权利要求书

1.一种单晶颗粒薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1.利用提拉法在衬底上制备一层阿拉伯树胶薄膜；

S2.选取75～97μm的单晶颗粒，并与胶黏剂混匀，之后加入分散剂；所述单晶颗粒与胶黏剂的体积比为1：1.5～2，所述分散剂的加入量是单晶颗粒与胶黏剂混合物质量总和的0.1～1%；

S3.将单晶颗粒、胶黏剂和分散剂的混合物涂覆于阿拉伯树胶薄膜上，经固化、研磨露出单晶颗粒表面后清洗干燥即得单晶颗粒薄膜；

S2所述胶黏剂选自环氧树脂、聚氨酯胶、硅橡胶。

2.根据权利要求1所述单晶颗粒薄膜的制备方法，其特征在于，S1所述的阿拉伯树胶薄膜的厚度为20～40μm。

3.根据权利要求1所述单晶颗粒薄膜的制备方法，其特征在于，S3所述单晶颗粒、胶黏剂和分散剂的混合物的涂覆厚度为110～130μm。

4.根据权利要求1所述单晶颗粒薄膜的制备方法，其特征在于，S3所述的研磨是指研磨掉阿拉伯树胶薄膜和胶黏剂，研磨的厚度为70～90μm。

5.根据权利要求1所述单晶颗粒薄膜的制备方法，其特征在于，S2所述单晶颗粒为铜锌锡硫单晶颗粒或者铜锌锡硫硒单晶颗粒。

6.根据权利要求1所述单晶颗粒薄膜的制备方法，其特征在于，S2所述分散剂选自聚丙烯酰胺、十二烷基硫酸钠、脂肪酸聚乙二醇酯。

7.权利要求1至6任一项所述方法制备得到的单晶颗粒薄膜。

8.一种无衬底柔性单晶颗粒薄膜太阳能电池，其特征在于，含有权利要求7所述单晶颗粒薄膜。

9.权利要求8所述单晶颗粒薄膜太阳能电池的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1.将单晶颗粒薄膜表面溅射沉积1～2μm的钼薄膜作为背电极层；

S2.取出样品，分离单晶颗粒薄膜并烘干，把单晶颗粒薄膜平铺在硬质衬底上，镀有钼薄膜的表面朝下，刻蚀掉单晶颗粒表面残留的阿拉伯树胶和胶黏剂；

S3.在单晶颗粒薄膜上依次制备CdS缓冲层、窗口层i-ZnO和透明电极层AZO，蒸镀电极，封装，即得无衬底柔性单晶颗粒太阳能电池。

10.根据权利要求9所述单晶颗粒薄膜的太阳能电池的制备方法，其特征在于，所述CdS缓冲层的厚度为40～60nm；所述窗口层i-ZnO和透明电极层AZO的厚度分别为100～400nm和0.4～1μm。