[发明专利]用于产生均匀磁场的装置和方法

权利要求书

1.一种装置，包括：

可转动壳体，包括：

包括第一磁性重定向材料的第一壁；和

相对于所述第一壁的第二壁，所述第二壁包括所述第一磁性重定向材料；和

至少两个位于所述可转动壳体内所述第一壁和所述第二壁之间的磁体，其中所述至少两个磁体包括平行磁化且彼此相对的第一对磁体，其中所述可转动壳体相对于包括所述至少两个磁体而没有所述可转动壳体的配置改变所述至少两个磁体的磁场，

其中所述第一壁和所述第二壁与所述第一对磁体的每一个磁体的北南极轴平行地设置，其中所述第一壁只接触所述至少两个磁体中的一个磁体并且所述第二壁只接触所述至少两个磁体中的不同的磁体。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述可转动壳体还包括：

垂直于所述第一壁和所述第二壁的第三壁，其中所述第三壁的长度包括所述第一壁和所述第二壁之间的距离；和

与所述第三壁相对的第四壁，其中所述第四壁垂直于所述第一壁和所述第二壁，其中所述第四壁的长度包括在所述第一壁和所述第二壁之间的距离。

3.如权利要求1所述的装置，其中所述可转动壳体还包括垂直于所述第一壁和所述第二壁的第一开口面，其中所述可转动壳体还包括相对于所述第一开口面的第二开口面，其中所述第二开口面垂直于所述第一壁和所述第二壁，以及其中相对于没有所述第一开口面和第二开口面的配置，所述可转动壳体抑制磁场在感兴趣区域内的弯曲。

4.如权利要求1所述的装置，还包括位于所述第一壁和所述第二壁之间的插入物。

5.如权利要求4所述的装置，其中所述插入物包括非磁性材料。

6.如权利要求4所述的装置，其中所述插入物包括第二磁性重定向材料。

7.如权利要求4所述的装置，其中所述插入物位于所述第一对磁体的第一磁体和第二磁体之间，其中所述第一磁体和第二磁体位于所述第一壁和所述第二壁之间。

8.如权利要求6所述的装置，其中所述插入物的所述第二磁性重定向材料和所述可转动壳体的所述第一磁性重定向材料包括不同的磁性重定向材料。

9.如权利要求6所述的装置，其中所述插入物的所述第二磁性重定向材料和所述可转动壳体的所述第一磁性重定向材料包括相同的磁性重定向材料。

10.如权利要求1所述的装置，其中所述第一磁性重定向材料包括钢、铁或铜。

11.如权利要求1所述的装置，其中所述至少两个磁体各自包括矩形棱柱形状。

12.如权利要求1所述的装置，其中所述第一壁和所述第二壁沿着所述可转动壳体的外表面弯曲。

13.如权利要求1所述的装置，其中所述可转动壳体还包括与所述第一磁性重定向材料不同的第二磁性重定向材料。

14.如权利要求1所述的装置，其中所述至少两个磁体包括位于所述可转动壳体内所述第一壁和所述第二壁之间的磁体阵列，其中所述磁体阵列包括彼此平行的磁轴，并且其中所述阵列的磁体极性上交替。

15.如权利要求1所述的装置，还包括位于所述第一壁和所述第二壁之间的两个或更多个插入物，其中所述两个或更多个插入物包括与所述第一磁性重定向材料不同的第二磁性重定向材料。

16.如权利要求1所述的装置，其中所述可转动壳体还包括基座，其中所述基座包括所述第一磁性重定向材料。

17.一种用于产生均匀磁场的方法，所述方法包括：

提供包括第一壁和与所述第一壁相对的第二壁的可转动壳体，所述第一壁和第二壁各自包括第一磁性重定向材料；

在所述可转动壳体内所述第一壁和所述第二壁之间放置至少两个磁体，其中所述至少两个磁体包括平行磁化且彼此相对的第一对磁体，其中所述第一对磁体的每一个磁体的北南极轴与所述第一壁和所述第二壁平行地设置，其中所述第一壁只接触所述至少两个磁体中的一个磁体并且所述第二壁只接触所述至少两个磁体中的不同的磁体；和

使用所述至少两个磁体和所述壳体在感兴趣区域内产生均匀磁场，其中相对于包括所述至少两个磁体而没有所述壳体的配置，所述壳体改变所述至少两个磁体的磁场。