[发明专利]一种压阻式压力传感器及其制备方法有效
申请号: | 201510512767.7 | 申请日: | 2015-08-19 |
公开(公告)号: | CN105092117B | 公开(公告)日: | 2017-06-09 |
发明(设计)人: | 聂萌;章丹;黄庆安 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | G01L1/18 | 分类号: | G01L1/18;G01L9/06 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)32249 | 代理人: | 杨晓玲 |
地址: | 211189 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 压阻式 压力传感器 及其 制备 方法 | ||
1.一种压阻式压力传感器的制备方法,其特征在于,该制备方法包括以下步骤:
第一步:对单面覆有金属薄层(6)的LCP薄膜层(2)进行激光打孔,构成阵列式结构的通孔;
第二步:利用迭片热压将LCP薄膜层(2)与LCP衬底(1)粘合;
第三步:在覆有金属薄层(6)的LCP薄膜层(2)的两端涂上光刻胶层(5);
第四步:对未被光刻胶层(5)覆盖的金属薄层(6)进行腐蚀;
第五步:去除光刻胶层(5),形成金属电极(3);
第六步:将石墨烯阵列层(7)填充在LCP薄膜(2)的通孔中,将石墨烯薄膜层(4)连接在LCP薄膜层(2)上,且石墨烯薄膜层(4)填充金属电极(3)之间的空隙和覆盖金属电极(3),从而制成压力传感器;
所述压力传感器包括LCP衬底(1)、LCP薄膜层(2)、金属电极(3)、石墨烯薄膜层(4)和石墨烯阵列层(7);LCP薄膜层(2)固定连接在LCP衬底(1)上,LCP薄膜层(2)中设有阵列式结构的通孔,金属电极(3)连接在LCP薄膜层(2)两端的上方,石墨烯薄膜层(4)连接在LCP薄膜层(2)上,且石墨烯薄膜层(4)填充金属电极(3)之间的空隙和覆盖金属电极(3);石墨烯阵列层(7)填充在LCP薄膜(2)的通孔中,且石墨烯薄膜层(4)和石墨烯阵列层(7)连接。
2.按照权利要求1所述的压阻式压力传感器的制备方法,其特征在于,所述的第六步具体包括:对金属电极(3)上表面粘贴胶布(9),然后对LCP薄膜层(2)和金属电极(3)及其表面粘贴的胶布旋涂上一氧化石墨烯层(8),氧化石墨烯层(8)填充LCP薄膜层(2)上的通孔和金属电极(3)之间的空隙,且覆盖金属电极(3)和胶布(9),接着撕掉金属电极(3)上的胶布(9),最后进行加热,氧化石墨烯层(8)还原成为位于在LCP薄膜(2)通孔中的石墨烯阵列层(7)和位于LCP薄膜(2)上方的石墨烯薄膜层(4),从而制成压力传感器。
3.按照权利要求2所述的压阻式压力传感器的制备方法,其特征在于,所述的氧化石墨烯层(8)还原过程中,温度低于LCP薄膜层(2)和LCP衬底(1)的熔融温度。
4.按照权利要求3所述的压阻式压力传感器的制备方法,其特征在于,所述的氧化石墨烯层(8)还原过程中,以氮气作为保护气。
5.按照权利要求1至4中任何一项所述的压阻式压力传感器的制备方法,其特征在于,所述的LCP薄膜层(2)中的通孔厚度为25~50微米。
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