[发明专利]一种压阻式压力传感器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510512767.7 申请日: 2015-08-19
公开(公告)号: CN105092117B 公开(公告)日: 2017-06-09
发明(设计)人: 聂萌;章丹;黄庆安 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: G01L1/18 分类号: G01L1/18;G01L9/06
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)32249 代理人: 杨晓玲
地址: 211189 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 压阻式 压力传感器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种压阻式压力传感器的制备方法,其特征在于,该制备方法包括以下步骤:

第一步:对单面覆有金属薄层(6)的LCP薄膜层(2)进行激光打孔,构成阵列式结构的通孔;

第二步:利用迭片热压将LCP薄膜层(2)与LCP衬底(1)粘合;

第三步:在覆有金属薄层(6)的LCP薄膜层(2)的两端涂上光刻胶层(5);

第四步:对未被光刻胶层(5)覆盖的金属薄层(6)进行腐蚀;

第五步:去除光刻胶层(5),形成金属电极(3);

第六步:将石墨烯阵列层(7)填充在LCP薄膜(2)的通孔中,将石墨烯薄膜层(4)连接在LCP薄膜层(2)上,且石墨烯薄膜层(4)填充金属电极(3)之间的空隙和覆盖金属电极(3),从而制成压力传感器;

所述压力传感器包括LCP衬底(1)、LCP薄膜层(2)、金属电极(3)、石墨烯薄膜层(4)和石墨烯阵列层(7);LCP薄膜层(2)固定连接在LCP衬底(1)上,LCP薄膜层(2)中设有阵列式结构的通孔,金属电极(3)连接在LCP薄膜层(2)两端的上方,石墨烯薄膜层(4)连接在LCP薄膜层(2)上,且石墨烯薄膜层(4)填充金属电极(3)之间的空隙和覆盖金属电极(3);石墨烯阵列层(7)填充在LCP薄膜(2)的通孔中,且石墨烯薄膜层(4)和石墨烯阵列层(7)连接。

2.按照权利要求1所述的压阻式压力传感器的制备方法,其特征在于,所述的第六步具体包括:对金属电极(3)上表面粘贴胶布(9),然后对LCP薄膜层(2)和金属电极(3)及其表面粘贴的胶布旋涂上一氧化石墨烯层(8),氧化石墨烯层(8)填充LCP薄膜层(2)上的通孔和金属电极(3)之间的空隙,且覆盖金属电极(3)和胶布(9),接着撕掉金属电极(3)上的胶布(9),最后进行加热,氧化石墨烯层(8)还原成为位于在LCP薄膜(2)通孔中的石墨烯阵列层(7)和位于LCP薄膜(2)上方的石墨烯薄膜层(4),从而制成压力传感器。

3.按照权利要求2所述的压阻式压力传感器的制备方法,其特征在于,所述的氧化石墨烯层(8)还原过程中,温度低于LCP薄膜层(2)和LCP衬底(1)的熔融温度。

4.按照权利要求3所述的压阻式压力传感器的制备方法,其特征在于,所述的氧化石墨烯层(8)还原过程中,以氮气作为保护气。

5.按照权利要求1至4中任何一项所述的压阻式压力传感器的制备方法,其特征在于,所述的LCP薄膜层(2)中的通孔厚度为25~50微米。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510512767.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top