[发明专利]一种沉淀池自动清理装置有效
申请号: | 201510513492.9 | 申请日: | 2015-08-20 |
公开(公告)号: | CN105031982B | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 曹志强;孙善坤;乔孟奎;王震;李广文;王林林 | 申请(专利权)人: | 泰山石膏股份有限公司 |
主分类号: | B01D21/24 | 分类号: | B01D21/24 |
代理公司: | 济南誉丰专利代理事务所(普通合伙企业) 37240 | 代理人: | 李茜 |
地址: | 271000 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 沉淀 自动 清理 装置 | ||
技术领域
本发明涉及磷石膏湿法处理中带式真空过滤机的循环水系统,具体地说是一种沉淀池自动清理装置。
背景技术
磷石膏湿法处理过程中,带式过滤机脱出来的水含有一定量的固体颗粒和无机物杂质,进入沉淀池后,固体颗粒沉淀淤积在沉淀池底部,无机物杂质漂浮在液体表面,不利于水资源循环利用。用挖掘机清理会造成污泥外流现象,直接用潜污泵清理沉淀池底部淤泥清理不彻底,并且不能清理表面浮渣。
发明内容
为解决上述存在的技术问题,本发明提供了一种沉淀池自动清理装置,能够自动清理沉淀池表面浮渣和底部淤泥,方便快捷,自动控制运行时间。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案如下:
一种沉淀池自动清理装置,包含有电动升降装置、电动行走装置、表面除渣装置、潜污泵和螺旋搅拌机构,所述电动升降装置、电动行走装置和自动控制装置固定设置于沉淀池的顶部侧面,所述潜污泵、螺旋搅拌机构分别设置于沉淀池的底部,所述螺旋搅拌机构将池底污泥搅拌后送入潜污泵的进口处,所述表面除渣装置漂浮设置于沉淀池内液体的液面上,所述电动升降装置、电动行走装置分别于螺旋搅拌机构、潜污泵连接,通过自动控制装置控制电动升降装置和电动行走装置带动螺旋搅拌机构和潜污泵上下、左右运动。
还包含有桥架机构,所述桥架机构设置于沉淀池的上方两侧面的水平导轨上,所述电动行走装置、电动升降装置和自动控制装置均固定设置于桥架机构上,所述电动行走装置带动桥架机构沿水平导轨在沉淀池上方左右移动,所述桥架机构上固定连接有升降导向机构,所述电动升降机构带动螺旋搅拌机构和潜污泵沿升降导向机构上下移动。
本发明在沉淀池内设计安装了螺旋搅拌机构和表面除渣装置,利用螺旋搅拌机构来松散和输送池底淤积的污泥至潜污泵入口,由潜污泵排出池外集中处理,表面除渣装置收集沉淀池内液体表面无机物浮渣,整套系统由自动控制装置控制,对沉淀池内水平、垂直方向全方位无死角进行清理,高效便捷,省时省力,控制装置自行控制运行时间,装置自动化程度高,提高了生产效率,节能环保。
附图说明
图1为本发明结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述:
如图1所示,该沉淀池自动清理装置,包含有电动升降装置3、电动行走装置4、表面除渣装置5、潜污泵6和螺旋搅拌机构7,所述电动升降装置3、电动行走装置4和自动控制装置固定设置于沉淀池1的顶部侧面,所述潜污泵6、螺旋搅拌机构7分别设置于沉淀池1的底部,所述螺旋搅拌机构7将池底污泥搅拌后送入潜污泵6的进口处,所述表面除渣装置5漂浮设置于沉淀池1内液体的液面上,所述电动升降装置3、电动行走装置4分别于螺旋搅拌机构7、潜污泵6连接,通过自动控制装置控制电动升降装置3和电动行走装置4带动螺旋搅拌机构7和潜污泵6上下、左右运动。
作为优选的方式,本实施例中,设计了桥架机构2,所述桥架机构2设置于沉淀池1的上方两侧面的水平导轨9上,所述电动行走装置4、电动升降装置3和自动控制装置均固定设置于桥架机构2上,所述电动行走装置4带动桥架机构2沿水平导轨在沉淀池1上方左右移动,所述桥架机构2上固定连接有升降导向机构8,所述电动升降机构3带动螺旋搅拌机构7和潜污泵6沿升降导向机构8上下移动。
本实施例中,桥架机构2的设计,方便了电动行走装置4、电动升降装置3及自动控制装置的固定,桥架机构2可在水平导轨上左右移动,配合升降导向机构8的设计,使得螺旋搅拌机构7和潜污泵6能够沿着升降导向机构8上下自由活动,配合表面吸渣装置5漂浮于液体表面收集表面无机物浮渣,能够实现对沉淀池内上下左右全方位无死角的清理。
具体的,螺旋搅拌机构7在沉淀池1底部用来松散和输送淤积的污泥,这些淤泥经由无堵塞潜污泵6输送至沉淀池1外集中处理。螺旋搅拌机构7和潜污泵6由升降导向机构8控制可以沿垂直方向自由升降,以适应沉淀池1底部不同的淤泥层厚度。表面吸渣装置5漂浮于液体表面收集表面无机物浮渣。整套自动清理装置自动化程度高,可以在水平方向和垂直方向全方位、无死角的清理沉淀池,高效便捷,省时省力。
当然,上述说明并非是对本发明的限制,本发明也并不仅限于上述举例,本技术领域的技术人员在本发明的实质范围内所做出的变化、改型、添加或替换,也应属于本发明的保护范围。
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