[发明专利]双重3D防伪膜

权利要求书

1.一种双重3D防伪膜，其特征在于，所述双重3D防伪膜包括纳米透镜防伪层（1）和磁性防伪层（2），所述纳米透镜防伪层（1）由纳米透镜层（11）和焦距层（12）构成，纳米透镜层（11）的上表面由多个连续的平行排列的半圆柱形纳米凸起构成，纳米透镜层（11）的下方为焦距层（12），焦距层（12）的厚度为所述半圆柱形纳米凸起的曲率半径的一半，焦距层（12）的下方为磁性防伪层（2），所述磁性防伪层（2）由固化性透明树脂（21）和分散于固化性透明树脂（21）中的磁性薄片（22）构成，所述磁性薄片（22）用于根据其方向改变光反射率和/或反射方向以显示立体图案。

2.如权利要求1所述的双重3D防伪膜，其特征在于，所述纳米透镜层（11）的上表面上的半圆柱形纳米凸起的曲率半径在50-200纳米之间。

3.如权利要求1或2所述的双重3D防伪膜，其特征在于，所述磁性防伪层（2）中的磁性薄片（22）的方向包括水平、垂直和倾斜，磁性薄片（22）沿水平方向排列的区域对光线的反射作用最强，该区域显示为明亮的凸起部，磁性薄片（22）沿垂直方向排列的区域对光线的反射作用最弱，该区域显示为黑暗的凹进部，磁性薄片（22）沿倾斜方向排列的区域对光线的反射作用介于沿水平方向排列的区域和沿垂直方向排列的区域之间，该区域显示为灰色区域，相邻的两个凸起部之间对应的纳米透镜层（11）的上表面平行排列有3-5个半圆柱形纳米凸起。

4.如权利要求1所述的双重3D防伪膜，其特征在于，所述纳米透镜层（11）的上方设置有外涂层（3），所述外涂层的上表面是平的。

5.如权利要求1所述的双重3D防伪膜，其特征在于，所述磁性防伪层（2）的下方依次设置有光屏蔽层（4）、粘结层（5）和离型层（6）。

6.如权利要求1所述的双重3D防伪膜，其特征在于，所述纳米透镜层（11）和焦距层（12）的材质均为聚丙烯基二甘醇碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲脂或聚碳酸酯。

7.如权利要求1所述的双重3D防伪膜，其特征在于，所述固化性透明树脂（21）为紫外光固化树脂或热固化树脂。

8.如权利要求1-7中任一项所述的双重3D防伪膜的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：

1）通过模压浇注工艺形成一个表面具有多个连续的平行排列的半圆柱形纳米凸起的纳米透镜层（11）；

2）通过模压浇注工艺在纳米透镜层（11）的另一个表面形成焦距层（12），使焦距层（12）的厚度为所述半圆柱形纳米凸起的曲率半径的一半，获得纳米透镜防伪层（1）；

3）在焦距层（12）表面涂覆分散有磁性薄片（22）的固化性透明树脂（21），形成未固化的磁性防伪层（2）；

4）采用具有至少两个薄片型永磁体的磁定向装置对未固化的磁性防伪层（2）中磁性薄片（22）进行定向，使磁性薄片（22）处于至少两个薄片型永磁体形成的磁场中，并按照磁感线的方向排列；

5）在磁定向完成后，向磁定向装置中通入热风或紫外光，使磁性防伪层（2）中的固化性透明树脂固化，获得双重3D防伪膜。

9.如权利要求8所述的双重3D防伪膜的制备工艺，其特征在于，还包括在所述纳米透镜层（11）的上方设置外涂层（3）以及在所述磁性防伪层（2）的下方依次设置光屏蔽层（4）、粘结层（5）和离型层（6）的步骤。

10.如权利要求8所述的双重3D防伪膜的制备工艺，其特征在于，相邻两个所述的薄片型永磁体位于同一平面内，其中一个薄片型永磁体的上表面为S极，下表面为N极，另一个薄片型永磁体的上表面为N极，下表面为S极，与薄片型永磁体的边缘相对的区域形成凸起部，与薄片型永磁体的中心相对的区域形成凹进部，凸起部和凹进部之间为灰色区域。