[发明专利]一种染料光敏化剂及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201510514059.7 | 申请日： | 2015-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN105153735B | 公开（公告）日： | 2017-08-25 |
| 发明（设计）人： | 王鹏;张敏;吴恒;薛中原;姚朝阳;王俊婷 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春应用化学研究所 |
| 主分类号： | C09B57/00 | 分类号： | C09B57/00;H01G9/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 130022 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 染料 光敏 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种染料光敏化剂，具有式(I)所示结构：
式(I)中，A为具有式(a)结构的取代基；E为具有式(c)结构的取代基；x为0；y为1；
或，A为具有式(a)结构的取代基；E为具有式(d)结构的取代基；x为0；y为0或1；
或，A为具有式(b)结构的取代基；E为具有式(c)结构的取代基；x为0；y为0或1；
或，A为具有式(b)结构的取代基；E为具有式(d)结构的取代基；x为0；y为1；
其中，R1和R’1分别独立地选自H、C2～C24烷基或C2～C24烷氧基；R3选自H、C1～C36烃基或C1～C36烷氧基取代的烃基；R2、R’2和R4分别独立地选自C1～C36烃基或C1～C36烷氧基取代的烃基；R6和R7分别独立地选自H、F、C1～C36烃基或C1～C36烷氧基取代的烃基；R5和R’5分别独立地选自具有式(f)结构的取代基：
式(f)中，R9为C1～C18烷基。
2.根据权利要求1所述的染料光敏化剂，其特征在于，R3选自H、C2～C24烃基或C2～C24烷氧基取代的烃基；R2、R’2和R4分别独立地选自C2～C24烃基或C2～C24烷氧基取代的烃基；R6和R7分别独立地选自H、F、C2～C24烃基或C2～C24烷氧基取代的烃基。
3.根据权利要求2所述的染料光敏化剂，其特征在于，所述R2、R’2和R4分别独立地选自C2～C24烷基。
4.根据权利要求2所述的染料光敏化剂，其特征在于，所述R3为具有式(e)结构的取代基：
式(e)中，R8为C1～C18烷氧基。
5.根据权利要求1所述的染料光敏化剂，其特征在于，所述染料光敏化剂具有式(II)、式(V)、式(VI)、式(VII)、式(VIII)或式(X)所示结构：
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