[发明专利]渗透装置及方法

权利要求书

1.一种用于磁体表层渗透处理的渗透装置，其特征在于，该渗透装置包括：

加热室，具有环形槽并在下端设置有加热室开口端；

旋转托盘，设置在所述加热室开口端下方；

旋转托架，安装在所述旋转托盘上；

料盒，设置在所述旋转托架上；

升降机构，用于使所述旋转托盘上下升降运动，使得旋转托架和料盒从所述加热室开口端进入所述环形槽内或从所述环形槽退出离开所述开口端；和

传动装置，使所述旋转托架能够在环形槽内自转且可绕所述旋转托盘中心轴公转；

其中，所述旋转托盘包括：

托盘保温构件，用于为所述加热室和所述料盒进行保温；和

支撑构件，设置在所述托盘保温构件下方，所述支撑构件内部具有冷却通道；

其中，所述料盒底部具有凸台，所述料盒的上盖具有凹槽，所述料盒的凸台与所述料盒的凹槽设置为能够配合实现不同料盒的同心定位叠置；

其中，所述旋转托架上部具有凹槽，所述旋转托架的凹槽与所述料盒底部的凸台设置为能够配合实现所述料盒与所述旋转托架的同心定位放置；

其中，所述加热室包括：

加热构件，设置在所述环形槽内壁两侧，所述加热构件与所述旋转托架中心的距离相同，对料盒进行双侧等距加热；和

加热室保温构件，所述加热室保温构件形成所述环形槽，其中加热室保温构件表层为反射屏，所述加热室保温构件内部填充有耐火保温材料；

其中，所述的渗透装置为渗透炉。

2.根据权利要求1所述的渗透装置，其特征在于，所述加热室还包括：

通风口，设置在加热室上部且呈环形阵列布置；

通风口开/关单元，设置在所述通风口下方，用于打开/关闭所述通风口，所述通风口开/关单元具有在关闭状态起保温作用的反射屏，所述通风口开/关单元处于关闭状态时，所述通风口不完全封闭。

3.根据权利要求1所述的渗透装置，其特征在于，该渗透装置还包括：

控制器,其用于控制所述旋转托盘的旋转速度和所述加热室加热温度。

4.根据权利要求1所述的渗透装置，其特征在于，所述旋转托架通过旋转机构呈环形阵列安装在所述旋转托盘上。

5.根据权利要求1所述的渗透装置，其特征在于，所述传动装置包括：

第一传动器，用于驱动所述旋转托盘旋转以及驱动所述旋转托架绕所述旋转托盘中心轴公转；

第二传动器，用于驱动所述旋转托架自转。

6.一种使用权利要求1～5任意一项所述的渗透装置对磁体进行高温渗透的方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：

(1)装料：

将磁体单层或层叠摆放若干层装入料盒中；

通过升降机构使旋转托盘和旋转托架整体下降，将所述料盒单层或层叠摆放在旋转托架上；

通过升降机构使旋转托盘和旋转托架整体上升，所述料盒进入加热室的环形槽内；

(2)抽真空：

将加热室抽真空；

(3)高温渗透：

通过传动装置使得旋转托盘旋转，旋转托架在环形槽内自转且绕加热室的环形槽公转；控制所述旋转托盘的旋转速度和所述加热室加热温度，对磁体进行渗透处理；

(4)冷却：

将被循环冷却的氩气从通风口进入加热室，对装载在料盒中的渗透完成的磁体进行冷却；

(5)取料：

通过升降机构使旋转托盘下降，取出装载有渗透完成的磁体的料盒。