[发明专利]一种水体中微囊藻毒素MC-LR的选择性光电化学分析方法

权利要求书

1.一种水体中微囊藻毒素MC-LR的选择性光电化学分析方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)配制含炔基修饰石墨烯、CuSO₄·5H₂O和抗坏血酸的THF溶液A，超声分散后将叠氮功能化TiO₂NTs置于THF溶液A中，氮气保护下反应，所得产物洗涤干燥后，即得石墨烯修饰TiO₂NTs电极；

(2)配制MC-LR核酸适配体水溶液，直接滴凃在步骤(1)制得的石墨烯修饰TiO₂NTs电极上，室温下静置，即制得MC-LR光电化学适配体传感器；

(3)配制不同浓度的MC-LR标准溶液，添加到以MC-LR光电化学适配体传感器为工作电极的三电极体系中，室温作用，施加偏压，在可见光激发下采用I-t曲线法进行光电流测定，通过光电流密度的变化量与各MC-LR标准溶液浓度的对数关系绘制标准工作曲线，然后将含MC-LR的待检测样品添加到三电极体系中，测定光电流密度，结合标准工作曲线即可得待检测样品的MC-LR浓度。

2.根据权利要求1所述的一种水体中微囊藻毒素MC-LR的选择性光电化学分析方法，其特征在于，步骤(1)中所述的炔基修饰石墨烯通过以下步骤制备而成：

配制氧化石墨烯水溶液，超声分散后，加入N₂H₄·H₂O，再加入NH₃·H₂O调节pH至11，得到混合液A，搅拌反应，再加入4-乙炔基苯胺和亚硝酸异戊酯，得到混合液B，继续搅拌反应，冷却至室温，分离洗涤干燥后，得到炔基修饰石墨烯。

3.根据权利要求2所述的一种水体中微囊藻毒素MC-LR的选择性光电化学分析方法，其特征在于，炔基修饰石墨烯的制备过程中：

所述的氧化石墨烯通过Hummers法制备得到，氧化石墨烯水溶液的浓度为1～4g/L，N₂H₄·H₂O的浓度为0.5～3v/v％，混合液B中4-乙炔基苯胺与亚硝酸异戊酯的浓度分别为0.1～2wt％和0.2～4v/v％；超声分散的时间为0.5～3h；

混合液A的搅拌反应时间为0.5～2h，反应温度为70～95℃；混合液B搅拌反应的时间为10～20h，反应温度为60～90℃；洗涤为将分离产物用去离子水和稀HCl洗涤直至滤液清澈，干燥温度为40～60℃，干燥时间为10～20h。

4.根据权利要求1所述的一种水体中微囊藻毒素MC-LR的选择性光电化学分析方法，其特征在于，步骤(1)中所述的叠氮功能化TiO₂NTs通过以下步骤制备而成：

以钛板为阳极、铂片为阴极于NH₄F和H₂O的乙二醇混合液中恒电位阳极氧化，然后置于管式炉中煅烧，得到直立有序的TiO₂NTs，然后将直立有序的TiO₂NTs置于APTES乙醇溶液中浸泡，水洗晾干后，得到表面氨基修饰TiO₂NTs，再将表面氨基修饰TiO₂NTs置于含4-叠氮基苯甲酸和EDC·HCl的THF溶液B中，氮气保护下反应，反应产物洗涤晾干后，即得到叠氮基功能化TiO₂NTs。

5.根据权利要求4所述的一种水体中微囊藻毒素MC-LR的选择性光电化学分析方法，其特征在于，叠氮功能化TiO₂NTs的制备过程中：

钛板阳极氧化的温度为15～30℃，氧化时间为2～4h，电位为20～50V，乙二醇混合液中NH₄F的浓度为0.1～0.4wt％，H₂O的浓度为1～3wt％，管式炉中的煅烧温度为400～500℃，煅烧时间为2～4h；

APTES乙醇溶液的浓度为0.5～2v/v％，TiO₂NTs的浸泡时间为6～15h；THF溶液B中4-叠氮基苯甲酸的浓度为6～10g/L，EDC·HCl的浓度为15～30g/L，表面氨基修饰TiO₂NTs的反应温度为室温，反应时间为20～30h。