[发明专利]一种在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法

权利要求书

1.一种在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：包括步骤如下：

1)取适量可溶性的磷源于烧杯中，在磁力搅拌的作用下，使磷源完全溶解在去离子水中，制成磷源溶液；

2)取一定量的可溶性钙盐在磁力搅拌的作用下完全溶解于去离子水中，制成钙源溶液；

3)将磷源溶液加入钙源溶液中，并且调节混合反应过程中的pH在9～11左右，伴随磁力搅拌持续的搅拌，最终获得白色乳状液，即为羟基磷灰石悬浊液；

4)将光学基底进行前期处理，处理完后放于聚四氟乙烯内衬中，并向内衬中加入步骤3)所得的羟基磷灰石悬浊液；然后放入高压反应釜中，使高压反应釜置于烘箱中以180℃的温度反应12h～36h，反应完成后自然冷却至室温，收集涂膜样品。

2.如权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步骤1)中的可溶性磷源可以用磷酸二氢铵，或者磷酸氢铵钠。

3.如权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步骤2)中的可溶性钙盐为硝酸钙。

4.如权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步骤1)和步骤2)中的钙源和磷源的摩尔量之比为1.67:1。

5.如权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步骤3)中调剂pH值的试剂为氨水，氨水易挥发，易溶解，方便后期样品洗涤的工作。

6.权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步骤4)中的光学基底的前期处理主要是通过柔和洗涤剂和纯水的反复冲洗。

7.权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步骤4)中收集涂膜样品时先通过超声将表面涂膜上的不稳定附着物除去。

8.权利要求1所述的在不同光学元件基底上涂抹生物活性羟基磷灰石透明薄膜方法，其特征在于：步骤4)所得的涂膜样品在烘箱中以40℃～55℃进行烘干处理。