[发明专利]一种像素界定层结构及其制作方法、显示面板及显示装置

权利要求书

1.一种像素界定层结构，其特征在于，包括第一像素界定层和位于第一像素界定层上的第二像素界定层，所述第一像素界定层具有与各个子像素的发光区域一一对应的多个第一开口，所述第二像素界定层具有为相同颜色子像素连成一片的区域共用的多个第二开口。

2.根据权利要求1所述的像素界定层结构，其特征在于，所述第一像素界定层的厚度为50~500nm。

3.根据权利要求1所述的像素界定层结构，其特征在于，所述第二像素界定层的厚度为1000~5000nm。

4.根据权利要求1所述的像素界定层结构，其特征在于，所述第一像素界定层为亲水性薄膜层，所述第二像素界定层为疏水性薄膜层。

5.根据权利要求4所述的像素界定层结构，其特征在于，所述亲水性薄膜层为负性光阻薄膜，所述疏水性薄膜层为正性光阻薄膜。

6.一种显示面板，其特征在于，其包括形成在阵列基板上的如权利要求1~5任一项所述的像素界定层结构。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板上的像素结构包括三种颜色的子像素构成的多个像素单元；每一像素单元由三种子像素成品字型排列形成正方形结构。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。

9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求6~8任一项所述的显示面板。

10.一种像素界定层结构的制备方法，其特征在于，包括步骤：

在阵列基板上形成一层亲水性薄膜层，并对其进行曝光显影形成具有与各个子像素的发光区域一一对应的多个第一开口的第一像素界定层；

在形成有第一像素界定层的阵列基板上形成一层疏水性薄膜层，并对其进行曝光显影形成具有为相同颜色子像素连成一片的区域共用的多个第二开口的第二像素界定层。