[发明专利]一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置有效

专利信息
申请号: 201510518760.6 申请日: 2015-08-21
公开(公告)号: CN105093652B 公开(公告)日: 2018-12-25
发明(设计)人: 郭远辉 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 及其 制作方法 显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种基板,其特征在于,包括位于衬底基板上的第一有机膜和第二有机膜,所述第一有机膜和所述第二有机膜同层间隔接触设置;所述第一有机膜和所述第二有机膜用作平坦层,所述第二有机膜的折射率大于所述第一有机膜的折射率;

所述基板为彩膜基板,所述第二有机膜的区域与黑矩阵区域对应设置,所述第一有机膜的区域与所述黑矩阵区域外的区域对应设置。

2.根据权利要求1所述的基板,其特征在于,所述基板为彩膜基板,所述第一有机膜的截面形状为梯形或矩形,所述第一有机膜和所述第二有机膜的接触面与水平面之间的夹角为30度到90度。

3.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括权利要求1或2所述的基板。

4.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求3所述的显示面板。

5.一种基板的制作方法,其特征在于,包括:在衬底基板上形成同层间隔接触设置的第一有机膜和第二有机膜的膜层;其中,

所述第一有机膜和所述第二有机膜用作平坦层,所述第二有机膜的折射率大于所述第一有机膜的折射率;所述基板为彩膜基板,所述第二有机膜的区域与黑矩阵区域对应设置,所述第一有机膜的区域与所述黑矩阵区域外的区域对应设置。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述基板为彩膜基板,制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:

在制作有黑矩阵、彩膜层和保护层的衬底基板上沉积一层第二有机膜层;

对所述第二有机膜层进行曝光和显影,去除黑矩阵区域外的区域对应区域的第二有机膜层,形成第二有机膜;其中,去除的第二有机膜层的截面形状呈梯形或矩形;

在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层第一有机膜层;

对所述第一有机膜层进行曝光和显影,去除黑矩阵区域对应区域的第一有机膜层,形成第一有机膜。

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