[发明专利]基于锆英石包覆二氧化锆粉体的锆英石/氧化锆复相材料及其制备方法有效
申请号: | 201510519796.6 | 申请日: | 2015-08-21 |
公开(公告)号: | CN105174979B | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | 王立平;杨德安;李功文;王峰;王鑫;阎继昌;高冲;陈建文 | 申请(专利权)人: | 淄博裕民基诺新材料有限公司 |
主分类号: | C04B35/66 | 分类号: | C04B35/66 |
代理公司: | 青岛发思特专利商标代理有限公司37212 | 代理人: | 王燕,耿霞 |
地址: | 255086 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 英石 包覆二 氧化锆 材料 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种基于锆英石包覆二氧化锆粉体的锆英石/氧化锆复相材料及其制备方法,属于耐火材料技术领域。
背景技术
致密锆英石砖作为耐火材料的优势在于它优异的高温物理性能,如低热膨胀系数、低热导率和良好的抗侵蚀性,能够抗玻璃、熔渣和液态金属合金的侵蚀。致密锆英石砖作为无碱玻璃纤维池窑的关键内衬材料,用作熔化池和澄清池的池壁背衬砖、池底铺面砖和亚层砖,主通路和作业通路的壁砖、底砖,流槽砖和拉丝砖等。
无碱玻璃液对其侵蚀的主要机制为玻璃液对砖体表面的冲刷,通过开口气孔引起玻璃液向砖体内部扩散与渗透,使结构疏松,砖体表面与内部结合力减弱,加上玻璃液的冲刷作用,外层砖体缓慢溶解。因而,降低气孔率有利于材料抗侵蚀性的提高。
致密锆英石砖的缺点在于,随着使用温度的提高,致密锆英石砖的抗侵蚀性能下降,因此其使用温度最好在1370℃以下。此外,为了使锆英石砖烧结致密,通常使用较高的温度烧结或加入少量助烧剂,但这两种方法均易引起锆英石的分解,造成结构疏松,并会产生一部分方英石相,会降低其抗玻璃侵蚀性。
锆质耐火材料有着良好的抗高温熔体的侵蚀性,使之在无碱玻璃熔窑中作为接触玻璃液的内衬材料被广泛采用。氧化锆含量为85~95%的高氧化锆电熔耐火材料具有更好的耐蚀性,对玻璃料液污染性低,尤其适用于低碱和无碱玻璃熔窑。
烧结氧化锆耐火材料通常进行全部或部分稳定处理,添加Y2O3、MgO、CaO等稳定剂来防止其因体积过度变化而崩裂。然而,这种含有稳定剂的高氧化锆烧结耐火材料使用在玻璃窑炉上时,稳定剂会溶解于玻璃液中,稳定氧化锆又变为非稳定氧化锆,导致组织脆弱,同时稳定剂与玻璃液结合,可能引发玻璃内出现砂砾、结石等缺陷。另外,氧化锆原料价格高,生产高纯氧化锆材料将显著地增加成本。
结合锆英石和氧化锆的特性,锆英石/氧化锆复相材料研究和应用受到关注,根据其化学组成,抗侵蚀性优于锆英石材料。但是,由于引入氧化锆后,氧化锆与锆英石两相间的烧结性较差,致使复相材料的气孔率较高,影响了复相材料抗玻璃侵蚀性能的提高。
发明内容
本发明的目的是提供一种基于锆英石包覆二氧化锆粉体的锆英石/氧化锆复相材料,解决了现有工艺中存在的锆英石/氧化锆复相材料烧结致密化困难的问题,改善锆英石/氧化锆复相材料的烧结性能,降低复相材料的气孔率;本发明同时提供其制备方法。
本发明所述的基于锆英石包覆二氧化锆粉体的锆英石/氧化锆复相材料,由锆英石细粉、锆英石包覆二氧化锆细粉和烧结助剂制成。
其中:
所述的锆英石细粉占70-97wt%,锆英石包覆二氧化锆细粉占3-30wt%;以锆英石细粉和锆英石包覆二氧化锆细粉总量100%计,外加烧结助剂0.2-1.0wt%。
所述的锆英石包覆二氧化锆细粉中的锆英石含量为包覆粉体的1-20wt%。
所述的锆英石细粉的平均粒径为1-10μm,锆英石包覆二氧化锆细粉的平均粒径为0.1-5μm,烧结助剂的平均粒径为0.5μm。
所述的烧结助剂为二氧化钛。
所述的锆英石包覆二氧化锆细粉的制备方法包括以下步骤:
(1)制备二氧化锆悬浮液:
将分散剂溶解于水中,调节其pH值在3-5之间,然后加入二氧化锆粉体,球磨后得到稳定悬浮的二氧化锆悬浮液;
(2)制备二氧化硅包覆二氧化锆粉体:
搅拌二氧化锆悬浮液,向二氧化锆悬浮液中滴加酸性硅溶胶,滴加完毕后继续搅拌,使溶胶粒子吸附在二氧化锆颗粒表面,再将悬浮液加热并保持搅拌,使水分挥发,得到二氧化硅凝胶包覆的二氧化锆粉体,然后对其进行干燥,得到二氧化硅包覆二氧化锆粉体;
(3)制备锆英石包覆二氧化锆粉体:
将二氧化硅包覆二氧化锆粉体进行煅烧,二氧化硅与二氧化锆颗粒表面反应,生成的锆英石包覆在二氧化锆颗粒表面,然后研磨煅烧后的粉体,过筛后得到锆英石包覆二氧化锆细粉。
步骤(1)中分散剂为改性聚羧酸盐AN-2000,用乳酸调节pH值在3-5之间;步骤(1)中分散剂的用量为二氧化锆粉体的0.1-0.4wt%,二氧化锆粉体与水的体积比为25-50:50-75;球磨时间为24-48h;二氧化锆粉体的平均粒径在0.1-5μm范围内。
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