[发明专利]具有微弧氧化涂层的多孔金属植入物及制备方法

权利要求书

1.一种具有微弧氧化涂层的多孔金属植入物的制备方法，其特征在于，包括：

S1、支架制备步骤：制备部分或者全部为相互连通孔隙的多孔金属支架；

S2、微弧氧化步骤：将所述多孔金属支架置入含有磷酸根离子和钙离子的碱性电解液的容器中，在搅拌的条件下采用直流脉冲电源进行微弧氧化，制得支架外部表面及内部表面均覆盖有微弧氧化涂层的多孔金属植入物；

所述多孔金属支架为快速成型技术制作的钛或钛合金支架，且所述多孔金属支架采用电子束融熔或激光选区熔化快速成型技术制备，所述多孔金属支架的孔隙形态为十二面体结构、金刚石结构、立方结构、蜂窝状结构或以上形状的组合，孔隙大小为500-1200μm；

所述步骤S2具体为：

S21、将所述多孔金属支架依次使用丙酮、无水乙醇和去离子水超声清洗5-10min，于烘箱中烘干；

S22、以去离子水或蒸馏水为溶剂配制碱性电解液，包括浓度为0.01-0.4mol/L的钙离子、0.01-0.2mol/L的磷酸根离子、0.02-0.2mol/L的EDTA-2Na和0.25-1mol/L的氢氧化钠，其中EDTA-2Na与钙离子的摩尔比大于0.5；

S23、以步骤S21处理后的多孔金属支架为阳极，以不锈钢板或不锈钢电解槽为阴极，采用磁力搅拌器搅拌碱性电解液，搅拌速度大于30次/分钟,设置微弧氧化的脉冲电压为250-600V，工作频率为200-1000Hz，占空比为5-40％，微弧氧化时间为5-20min；

S24、将步骤S23处理的多孔金属支架取出，采用去离子水超声清洗5-20min，在烘箱中烘干，得到具有微弧氧化涂层的多孔金属植入物。

2.根据权利要求1所述的具有微弧氧化涂层的多孔金属植入物的制备方法，其特征在于，所述碱性电解液中EDTA-2Na与钙离子的摩尔比为0.6-1。

3.根据权利要求2所述的具有微弧氧化涂层的多孔金属植入物的制备方法，其特征在于，所述钙离子选自乙酸钙、硝酸钙或氯化钙中的一种；所述磷酸根离子选自磷酸二氢钠、磷酸二氢钙、磷酸二氢钾中的一种。

4.根据权利要求1所述的具有微弧氧化涂层的多孔金属植入物的制备方法，其特征在于，所述碱性电解液还包括0.01-0.1mol/L的锶盐。

5.根据权利要求1所述的具有微弧氧化涂层的多孔金属植入物的制备方法，其特征在于，多孔金属支架外部表面覆盖的微弧氧化涂层厚度为5-7μm；多孔金属支架内部表面覆盖的微弧氧化涂层厚度为4-5μm。

6.一种具有微弧氧化涂层的多孔金属植入物，其特征在于，采用权利要求1-5中任意一项所述的制备方法制得。