[发明专利]一种彩色滤光片及其制作方法在审
申请号: | 201510522935.0 | 申请日: | 2015-08-24 |
公开(公告)号: | CN105158962A | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 汪丽芳;王聪 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 彩色 滤光 及其 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及液晶领域,特别是涉及一种彩色滤光片及其制作方法。
背景技术
传统的LTPS(LowTemperaturePoly-silicon,低温多晶硅)面板结构设计中,在彩色滤光片上往往会单独沉积一层PS(PostSpacer,隔垫物),其中,PS主要用于提供LTPS面板中上下两层玻璃基板的支撑。
一般来说,PS包括高度不同的MainPS(主隔垫物)和SubPS(辅助隔垫物),MainPS和SubPS往往需要采用两张光罩制程来制作,从而使得彩色滤光片的制程周期变长、制程成本变高。
另外,现有PS的形状一般为梯形,且其远离彩色滤光片的末端呈球面状。在实际使用中,当LTPS面板受压后,PS很容易滑落入像素的透光区,从而造成mura也即显示器亮度不均的状况。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种彩色滤光片及其制作方法,能够减少彩色滤光片制造过程中的光罩次数,从而降低彩色滤光片的制造成本,同时能够改善面板受压后出现隔垫物下滑到像素的透光区而造成的亮度不均的状况。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种彩色滤光片的制作方法,该方法包括:在基板上形成黑色矩阵;通过第一掩膜板在基板上形成第一色阻以及在黑色矩阵上形成第一间隔部;通过第二掩膜板在基板上形成与第一色阻间隔排列的第二色阻以及在第一间隔部上形成第二间隔部;通过第三掩膜板在基板上形成与第一色阻、第二色阻间隔排列的第三色阻;其中,黑色矩阵、第一间隔部和第二间隔部重叠后形成彩色滤光片的隔垫物。
其中,黑色矩阵包括第一黑色矩阵和第二黑色矩阵,隔垫物包括第一隔垫物和第二隔垫物,其中,第一黑色矩阵和第二黑色矩阵间隔设置且具有不同的高度,第一黑色矩阵、第一间隔部和第二间隔部重叠后形成第一隔垫物,第二黑色矩阵、第一间隔部和第二间隔部重叠后形成第二隔垫物。
其中,第一间隔部和第一色阻相连,第二间隔部和第二色阻相连,第一间隔部和第二间隔部形成于第一色阻和第二色阻之间。
其中,第一掩膜板和第二掩膜板为半透式掩膜板,其中,第一掩膜板包括有用于形成第一色阻的第一透光区、用于形成第一间隔部的第二透光区以及与第一透光区间隔设置的遮光区,第二掩膜板包括有用于形成第二色阻的第一透光区、用于形成第二间隔部的第二透光区以及与第一透光区间隔设置的遮光区。
其中,第三掩膜板为半透式掩膜板,其中,第三掩膜板包括有用于形成第三色阻的半透光区以及与半透光区间隔设置的遮光区。
为解决上述技术问题,本发明采用的另一个技术方案是:提供一种彩色滤光片,该彩色滤光片包括:黑色矩阵,设置于基板上;第一色阻、第二色阻和第三色阻,设置于基板上且依次重复排列;第一间隔部,与第一色阻由同一制程得到,设置于黑色矩阵上;第二间隔部,与第二色阻由同一制程得到,设置于第一间隔部上;其中,黑色矩阵、第一间隔部和第二间隔部重叠后形成彩色滤光片的隔垫物。
其中,黑色矩阵包括第一黑色矩阵和第二黑色矩阵,隔垫物包括第一隔垫物和第二隔垫物,其中,第一黑色矩阵和第二黑色矩阵间隔设置且具有不同的高度,第一黑色矩阵、第一间隔部和第二间隔部重叠后形成第一隔垫物,第二黑色矩阵、第一间隔部和第二间隔部重叠后形成第二隔垫物。
其中,第一间隔部和第一色阻相连,第二间隔部和第二色阻相连,第一间隔部和第二间隔部设置于第一色阻和第二色阻之间。
其中,第一间隔部和第二间隔部为红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻中的一种。
其中,第一隔垫物和第二隔垫物悬空的端部呈平面状。
本发明的有益效果是:本发明的彩色滤光片及其制作方法通过第一掩膜板在基板上形成第一色阻以及黑色矩阵上形成第一间隔部,通过第二掩膜板在基板上形成与第一色阻间隔排列的第二色阻以及在第一间隔部上形成第二间隔部,其中,黑色矩阵、第一间隔部和第二间隔部重叠后形成彩色滤光片的隔垫物。通过上述方式,本发明不需要额外的光罩制程来制造隔垫物,减少了彩色滤光片的制程成本,同时隔垫物由黑色矩阵、第一色阻和第二色阻重叠形成,当面板受到挤压时,隔垫物不会滑落入像素的透光区从而造成mura状况。
附图说明
图1是本发明彩色滤光片制程中形成色阻所采用的掩膜板的结构示意图;
图2是本发明彩色滤光片的制作方法的流程示意图;
图3A-3F是本发明中彩色滤光片制程中的结构示意图;
图4是本发明彩色滤光片的第一剖面结构示意图;
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