[发明专利]一种敷型涂覆膜厚度的测量方法、装置及系统有效
| 申请号： | 201510526666.5 | 申请日： | 2015-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN105157651B | 公开（公告）日： | 2017-10-24 |
| 发明（设计）人： | 于红娇;董则宇 | 申请（专利权）人： | 北京经纬恒润科技有限公司 |
| 主分类号： | G01B21/08 | 分类号： | G01B21/08;G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 100101 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 敷型涂覆膜 厚度 测量方法 装置 系统 | ||
1.一种敷型涂覆膜厚度的测量方法，其特征在于，包括：
获得元器件的长度L1、高度H、封装长度L2以及敷型涂覆膜上的光圈长度L3；
利用公式计算得到敷型涂覆膜厚度D；
其中，所述获得元器件的长度L1、高度H，包括：
通过实际测量或电子元器件的数据表中获得所述长度L1和高度H；
所述获得元器件的封装长度L2，包括：
通过实际测量或电子元器件的数据表中获得所述封装长度L2；所述获得元器件的敷型涂覆膜上的光圈长度L3，包括：
通过具有测量功能的显微镜测量获得所述敷型涂覆膜上的光圈长度L3。
2.根据权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述获得元器件的长度L1、高度H、封装长度L2以及敷型涂覆膜上的光圈长度L3，还包括：
在封装前，获得元器件的长度L1、高度H；
在封装后，进行敷型涂覆前，获得元器件的封装长度L2；
在敷型涂覆膜完全固化后，获得元器件的敷型涂覆膜上的光圈长度L3。
3.一种敷型涂覆膜厚度的测量装置，其特征在于，包括：
获取单元，用于获得元器件的长度L1、高度H、封装长度L2以及敷型涂覆膜上的光圈长度L3；
计算单元，用于利用公式计算得到敷型涂覆膜厚度D；
其中，所述获取单元包括：
第一获取单元，用于通过实际测量或从电子元器件的数据表中获得所述长度L1和高度H；
第二获取单元，用于通过实际测量或从电子元器件的数据表中获得所述封装长度L2；
第三获取单元，用于通过具有测量功能的显微镜测量获得所述敷型涂覆膜上的光圈长度L3。
4.一种敷型涂覆膜厚度的测量系统，其特征在于，包括：显微镜和处理器，其中：
所述显微镜，用于测量得到所述敷型涂覆膜上的光圈长度L3；
所述处理器用于：获得元器件的长度L1、高度H、封装长度L2以及所述敷型涂覆膜上的光圈长度L3；并利用公式计算得到敷型涂覆膜厚度D；
其中，所述处理器包括：
获取单元，用于获得元器件的长度L1、高度H、封装长度L2以及敷型涂覆膜上的光圈长度L3；
计算单元，用于利用公式计算得到敷型涂覆膜厚度D；
其中，所述获取单元包括：
第一获取单元，用于通过实际测量或从电子元器件的数据表中获得所述长度L1和高度H；
第二获取单元，用于通过实际测量或从电子元器件的数据表中获得所述封装长度L2；
第三获取单元，用于通过具有测量功能的显微镜测量获得所述敷型涂覆膜上的光圈长度L3。
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