[发明专利]一种蜡纸掩模及其制备方法有效
申请号: | 201510528675.8 | 申请日: | 2015-08-24 |
公开(公告)号: | CN105045036B | 公开(公告)日: | 2020-12-25 |
发明(设计)人: | 蔡洪冰;王晓平;罗毅 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68;G03F1/78 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵青朵 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 蜡纸 及其 制备 方法 | ||
1.一种蜡纸掩模的制备方法,包括:
对涂覆聚甲基丙烯酸甲酯的样品曝光、显影以及定影,得到蜡纸掩膜,
所述聚甲基丙烯酸甲酯的重均分子量为50000~950000;
所述曝光的曝光剂量为300~430μC/cm2;
所述涂覆聚甲基丙烯酸甲酯的样品中聚甲基丙烯酸甲酯的厚度为0.1~1.5微米。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述涂覆聚甲基丙烯酸甲酯的样品按照以下方法制备:
在衬底上涂覆聚甲基丙烯酸甲酯溶液,得到涂覆聚甲基丙烯酸甲酯的样品,
所述聚甲基丙烯酸甲酯的溶液为聚甲基丙烯酸甲酯的有机溶液,
所述有机溶液的有机溶剂为氯仿和甲醚中的一种或两种。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述聚甲基丙烯酸甲酯溶液中聚甲基丙烯酸甲酯的质量百分含量为1wt%~9wt%。
4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述涂覆的方式为旋涂。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述旋涂的转速为2000~6000rpm。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述曝光为电子束曝光。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述显影的时间为30秒~120秒。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述定影的时间为30秒~120秒。
9.一种蜡纸掩膜,由权利要求1~8任意一项所述的制备方法制备得到。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备