[发明专利]一种铜铟镓硒太阳能电池光吸收层薄膜的制备方法有效
申请号: | 201510531219.9 | 申请日: | 2015-08-26 |
公开(公告)号: | CN105206707B | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
发明(设计)人: | 吴富章 | 申请(专利权)人: | 厦门神科太阳能有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/032;C23C14/35 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司35204 | 代理人: | 张松亭,姜谧 |
地址: | 361000 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铜铟镓硒 太阳能电池 光吸收 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种铜铟镓硒太阳能电池光吸收层薄膜的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:
(1)将已经沉积好金属背电极和前驱金属合金层的铜铟镓基板以40~60°的角度放置在真空腔的工作盘上,用电子束蒸发法在其上制备厚度为100~800nm的第一硒膜,电子束蒸发法的参数为:蒸发速率工件盘转速为12~43r/min,第一硒膜的均匀性控制在±5nm以内;
(2)将步骤(1)制得的具有硒膜的铜铟镓基板以15~95℃/min的速率加热至100~300℃,同时通入纯度为99.5~99.999%的惰性气体,并保持10kPa~100kPa的恒定压力;
(3)继续以15~95℃/min的速率加热至300~600℃,保持10kPa~100kPa的恒定压力,同时用电子束蒸发法和离子源辅助硒化法在第一硒膜上制备厚度为500nm~1000nm的第二硒膜,电子束蒸发法的参数为:蒸发速率工件盘转速为1~17r/min,离子源辅助硒化法的参数为:纯度在99.5%以上的氩气气氛,工作电压在300~700V,电流在2.5~7.5A,第二硒膜的均匀性控制在±5nm以内;
(4)将温度降低到200℃,排出真空腔内的气体,即得产品。
2.如权利要求1所述的一种铜铟镓硒太阳能电池光吸收层薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中的电子束蒸发法的参数为:蒸发速率工件盘转速为15~40r/min。
3.如权利要求1所述的一种铜铟镓硒太阳能电池光吸收层薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中的惰性气体为氩气或氮气。
4.如权利要求1所述的一种铜铟镓硒太阳能电池光吸收层薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中的电子束蒸发法的参数为:蒸发速率工件盘转速为1~15r/min。
5.如权利要求1所述的一种铜铟镓硒太阳能电池光吸收层薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中的离子源辅助硒化法的参数为:纯度在99.5%以上的氩气气氛,工作电压在300~650V,电流在3.0~7.0A。
6.如权利要求1所述的一种铜铟镓硒太阳能电池光吸收层薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)和(3)中的加热的速率为20~90℃/min。
7.如权利要求1所述的一种铜铟镓硒太阳能电池光吸收层薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)和(3)中的加热的方式为卤素灯照下加热或者电阻丝上加热,同时采用光辅助提高硒分子的活性。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的