[发明专利]具有动态独立喷射器控制的后处理系统

权利要求书

1.一种后处理系统，包括：

至少一个排放通道；

多个还原剂喷射器，其能够被控制以向至少一个排放通道中定量分配还原剂；

至少一个传感器，其能够产生指示排放参数的信号；以及

控制器，其与所述多个还原剂喷射器中的每个和所述至少一个传感器通信，控制器能够

基于信号确定限定的定量分配周期，所述定量分配周期包括还原剂喷射器定量分配还原剂的持续时间；

基于第二数量的还原剂喷射器将限定的定量分配周期分为第一数量的子周期；

给还原剂喷射器中的至少一个还原剂喷射器指定子周期中的至少一个子周期，至少一个喷射器能够仅在子周期中的至少一个子周期过程中定量分配还原剂；

调节还原剂喷射器中的至少一个还原剂喷射器的喷射器正时；以及

在先前的限定的定量分配周期结束之后开始新的限定的定量分配周期。

2.根据权利要求1所述的后处理系统，还包括多个阀，其中多个阀中的一个阀与还原剂喷射器中的每个还原剂喷射器成一列，并且多个还原剂喷射器能够通过多个阀的打开和闭合来被独立地控制。

3.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，控制器能够调节多个还原剂喷射器的定量分配，以维持自至少一个排放通道的排放成分的总的排出一致。

4.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，控制器能够选择能够同时定量分配还原剂的还原剂喷射器的子组。

5.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，控制器能够调节还原剂喷射器的定量分配的顺序。

6.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，每个子周期的持续时间相等。

7.根据权利要求5所述的后处理系统，其中，控制器能够通过调节给还原剂喷射器的子周期的指定来调节所述顺序。

8.根据权利要求4所述的后处理系统，其中，控制器能够通过调节子周期的指定来调节多个还原剂喷射器的分组。

9.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，排放参数能够包括NO_X的量、还原剂定量分配率、排放的质量流率、排放温度、催化剂载体温度、和催化剂载体降级中的至少一个。

10.一种定量分配还原剂的方法，包括：

在沿着排放通道的多个不同位置处自一个或多个喷射器向排放流中定量分配还原剂；

检测排放流的排放参数；

基于所述排放参数确定限定的定量分配周期，所述定量分配周期包括喷射器定量分配还原剂的持续时间；

基于第二数量的喷射器将限定的定量分配周期分为第一数量的子周期；

给喷射器中的至少一个喷射器指定子周期中的至少一个子周期，至少一个喷射器能够仅在子周期中的至少一个子周期过程中定量分配还原剂；以及

在先前的限定的定量分配周期结束之后开始新的限定的定量分配周期。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，排放参数能够包括NO_X的量、还原剂定量分配率、排放的质量流率、排放温度、催化剂载体温度、和催化剂载体降级中的至少一个。

12.根据权利要求10所述的方法，其中，基于排放参数动态地调节定量分配来维持排放成分的总的排出一致。

13.根据权利要求10所述的方法，其中，第一数量等于第二数量。

14.根据权利要求13所述的方法，还包括调节多个位置的定量分配顺序，或者选择用于同时喷射还原剂的位置的子组。

15.根据权利要求13所述的方法，还包括调节喷射器中的至少一个喷射器的喷射器正时。