[发明专利]一种改进的H酸生产工艺有效
申请号: | 201510540769.7 | 申请日: | 2015-08-28 |
公开(公告)号: | CN105130854B | 公开(公告)日: | 2017-12-12 |
发明(设计)人: | 张云保;孔令鸟;徐雷金;陈丽娜 | 申请(专利权)人: | 浙江奇彩环境科技股份有限公司 |
主分类号: | C07C309/50 | 分类号: | C07C309/50;C07C303/22;C02F9/06;C02F103/36 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司33224 | 代理人: | 刘静静 |
地址: | 312000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 改进 生产工艺 | ||
技术领域
本发明涉及废水处理技术领域,具体涉及一种改进的H酸生产工艺。
背景技术
H-酸,又名1-氨基-8-萘酚-3,6-二磺酸,如结构式(I)所示,无色晶体,是一种重要的染料中间体,主要用于生产酸性、活性染料和偶氮染料,也可用于制药工业。
H-酸微溶于冷水,易溶于热水、纯碱和烧碱等碱性溶液中。在酸析工序中加入硫酸(或盐酸)析出H-酸单钠盐,过滤后的H酸废水属典型的高浓度、高色度、高生物毒性的有机废水。
现有的H-酸生产方法以萘为原料,经磺化、硝化得1-硝基-3,6,8-萘三磺酸,经氨水中和、铁粉还原得1-氨基-3,6,8-萘三磺酸三铵盐,再经T-酸离析、T-酸过滤、T-酸洗涤及溶解,T-酸清净压滤,碱熔,H-酸离析得到H-酸膏状物。
其中,碱熔过程为:在高压釜中加入固碱、液碱和T酸溶液,升温减压蒸馏脱水,降温至100℃加入甲醇,升温至200℃,保持一段时间后,降温在80~90℃之间减压脱甲醇,最后降温出料。
T酸离析工段中,用部分H酸母液和硫酸洗涤T酸。
H酸离析过程为:在室温下,将硫酸升温至60℃,然后加入碱熔物料后,升温至95℃,保持一段时间后,降温至60℃过滤,用清水洗涤滤饼,抽干后出料。
H酸废水中的主要有机污染物为萘及萘系衍生物,主要无机物为硫酸钠及铵盐,而且相比其它含萘系有机物的废水,具有其特殊性:
(1)污染物成分复杂,浓度高,在生产过程中排出的H-酸母液,含有大量萘系衍生物,COD高达几万mg/L,成分复杂;
(2)酸性强,pH大约在1~2之间;
(3)色度深,大约1×105左右,一般呈棕黄至黑褐色;
(4)毒性大,H酸属于稠环芳烃,具有强烈的生物毒性,废水若不经处理直接排放,将严重污染环境,对人体也有很大危害;
(5)不易生物降解,由于萘环是由10个碳原子组成的离域的共轭π键,结构相当稳定,难以降解。
现有的H酸生产工艺中,通常对H酸离析废水进行萃取;然后,进行浓缩盐蒸,得到的硫酸钠做固废处理或者回用。由于硫酸钠的产量过剩,且浓缩盐蒸的成本高、获得的硫酸钠盐品质较差,应用范围窄。H酸生产工艺中用到大量硫酸、氢氧化钠及氨水,若可以从工艺内获得这些原料,则会大幅提高废水中资源的利用率,降低H酸生产成本。
本发明通过对工艺及工艺废水研究,解决了这一问题。
发明内容
本发明提供了一种改进的H酸生产工艺,对H酸生产过程中产生的废水进行回收利用,不仅降低了废水的排放量,同时降低了H酸生产过程的原料成本。
一种改进的H酸生产工艺,精萘依次经磺化、硝化、中和、还原、T酸离析、碱熔、H酸离析制备得到H酸,其特征在于,H酸离析废水依次经湿式氧化、后处理以及双极膜处理,得到硫酸和氢氧化钠,将所得硫酸和氢氧化钠溶液回用至工业生产过程中。
例如,将硫酸回用至H酸离析工段,氢氧化钠回用至碱熔和/或硝化工段。
本发明提供的方法对现有的H酸生产工艺进行了改进,对H酸生产过程中产生的废水进行资源回收以及循环利用,达到清洁生产的目的。
本发明提供的方法首先采用湿式氧化将H酸离析废水中的有机物降解为小分子物质,然后,通过后处理进一步去除废水中的杂质,最后,利用双极膜将废水中的盐电解为硫酸和氢氧化钠,并将硫酸和氢氧化钠回用至相应的工段。
H酸离析时用到的底水为质量分数为15-20%的稀硫酸,本方法回收到的硫酸溶液可用来配制底水。
氢氧化钠溶液可用于硝化工段的脱硝过程,或者浓缩后用于碱熔工段。硝化过程中产生的亚硝基硫酸加水后产生大量氮氧化物尾气,利用回收到的碱溶液吸收该尾气,生成的亚硝酸盐溶液可用于重氮反应。
H酸生产过程中的T酸离析工段产生的废水可以采用与H酸离析废水相同的方法进行处理以及回用,T酸离析废水依次经湿式氧化、后处理以及双极膜处理,得到硫酸和氨水,硫酸和氨水回收利用于工业生产中。
硫酸回用方法同上;氨水用于中和工段,中和过程采用质量分数为20%左右的氨水,通常预先配好,本发明回收的氨水可用来配置氨水。
作为优选,H酸离析废水或T酸离析废水进行湿式氧化的条件为:pH为2~11,压力为2~8MPa,温度为180~300℃。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江奇彩环境科技股份有限公司,未经浙江奇彩环境科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510540769.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一个大量程光学延迟装置
- 下一篇:分布式MIMO系统基站侧天线位置优化方法