[发明专利]疾病检测仪有效
申请号: | 201510540946.1 | 申请日: | 2011-06-30 |
公开(公告)号: | CN105353143B | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 俞昌;杜学东;俞和 | 申请(专利权)人: | 安派科生物医学科技有限公司 |
主分类号: | G01N35/00 | 分类号: | G01N35/00;C12Q1/68;A61B5/00;B01L3/00 |
代理公司: | 北京大成律师事务所11352 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 维尔京群*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 疾病 检测 | ||
1.一种检测生物样本中疾病的装置,包括由一方法制造的检测器件,该方法包括:
提供一个衬底;
依次淀积第一材料与第二材料作为两层至衬底上,形成材料堆叠;
用对第一材料具有选择性的微电子工艺对第二材料图形化,在第二材料层中创造至少部分的凹陷区域;
在材料堆叠上淀积第三材料,覆盖第二材料;
通过抛光或回蚀工艺,去除第二材料上部的第三材料的部分;
用微电子工艺图形化第三材料,以形成至少部分的凹陷区域;
淀积第四材料至材料堆叠上;
通过抛光或回蚀工艺,去除第二、第三材料上部的第四层材料;及
淀积第五材料;
图形化第五种材料以形成沟槽;
以平板或另一器件覆盖材料堆叠;
所述的第二材料通过对第一材料具有选择性的光刻和刻蚀工艺实现图形化,以形成第二材料层中的部分凹陷区域;
所述的第四材料通过化学机械抛光或回蚀工艺实现图形化,以截止于第二和第三材料上,以形成能够检测来自生物样本的响应信号的检测器。
2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述的微电子工艺包括薄膜淀积、光刻、刻蚀、抛光、清洗、离子注入、扩散或封装。
3.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述的第二材料通过图形化形成能够探测或扰动生物样本的探针。
4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述的第四材料使用抛光,回蚀工艺或者同时使用抛光和回蚀工艺实现图形化,形成第二探针。
5.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述的第五材料图形化形成可以在疾病检测中使流体样品通过的通道,沿着通道的底部合理对齐有探针。
6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述的制造方法进而包括在材料堆叠顶端放置另外一个器件以加盖,形成封闭沟槽。
7.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述的制造方法进而包括加盖材料堆叠的顶端,形成封闭沟槽。
8.如权利要求7所述的装置,其特征在于,所述的封闭沟槽可用于观察和记录的生物样本的特性和行为。
9.如权利要求7所述的装置,其特征在于,所述的加盖包括将另外的器件放置于材料堆叠的顶端,另外的器件可以是与被加盖的器件相同的器件、一片玻璃或晶体、或选自包含有以下部件的功能性器件组:图像器件、传感器、记忆存储器、信号传输器、逻辑处理部件、用于数据存储、信号传输与信号处理的电路。
10.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述的制造方法进而包括使用微电子技术在衬底上制造传感器、记忆存储器、信号传输器、逻辑处理部件、或用于数据存储、信号传输、或信号处理的电路。
11.如权利要求10所述的装置,其特征在于,所述的微电子工艺包括薄膜淀积、光刻、刻蚀、抛光、清洗、离子注入、扩散或封装。
12.如权利要求10所述的装置,其特征在于,所述的第三材料通过对第一、第二材料具有选择性的光刻和刻蚀工艺图形化,以去除第三材料的至少部分,而图形化工艺中保护第二材料。
13.如权利要求10所述的装置,其特征在于,所述的第三材料通过对第一、第二材料具有选择性的光刻和刻蚀工艺图形化,去除第三材料的至少部分。
14.如权利要求10所述的装置,其特征在于,所述的第三材料通过化学或机械抛光工艺或回蚀工艺图形化,以截止于第二材料。
15.如权利要求10所述的装置,其特征在于,所述的第五材料通过光刻和刻蚀工艺图形化。
16.如权利要求15所述的装置,其特征在于,所述的第五材料通过图形化以形成疾病检测过程中流体样品可通过的至少一个通道或至少一个检测腔,沿着通道的内壁合理对齐有探针。
17.如权利要求10所述的装置,其特征在于,所述的方法进而包括放置另一器件至材料堆叠层顶端以形成封闭的沟槽。
18.如权利要求10所述的装置,其特征在于,所述的方法进而包括加盖材料堆叠层顶端以形成封闭的沟槽。
19.如权利要求18所述的装置,其特征在于,所述的封闭的沟槽可用于观察和记录生物样本的特性与行为。
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