[发明专利]显示装置及其制造方法有效
申请号: | 201510542220.1 | 申请日: | 2015-08-28 |
公开(公告)号: | CN105390525B | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 李省龙;徐常源 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 王占杰 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种显示装置,所述显示装置包括具有中央区域和围绕所述中央区域的外周区域的基底,所述中央区域具有显示区域,所述显示区域包括至少一个显示器件和薄膜晶体管,所述显示装置还包括:
显示区域无机层,位于所述显示区域上且位于所述至少一个显示器件下方,并延伸到所述外周区域的一部分;
钝化层,位于所述薄膜晶体管和所述显示区域无机层上,所述至少一个显示器件位于所述钝化层上并穿过所述钝化层电连接到所述薄膜晶体管;以及
包封无机层,位于所述显示区域无机层上,覆盖所述显示区域,并具有与所述显示区域无机层的边缘连接的边缘,或者具有延伸越过所述显示区域无机层的边缘的边缘,
其中,所述包封无机层覆盖所述至少一个显示器件,并在所述外周区域处与位于所述钝化层下方的所述显示区域无机层的顶表面直接接触,
其中,所述显示区域无机层接触从所述薄膜晶体管的有源层、栅极、源极和漏极中选择的至少一个。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述包封无机层比所述基底小,所述包封无机层的所述边缘与所述基底的边缘隔开。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述显示区域无机层比所述基底小,所述显示区域无机层的所述边缘与所述基底的边缘隔开。
4.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述包封无机层的至少一个边缘延伸越过所述显示区域无机层的所述边缘,从而位于所述基底上。
5.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述包封无机层包括主要区域和连接到所述主要区域的阴影区域,所述阴影区域比所述主要区域更接近所述基底的边缘。
6.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述主要区域延伸越过所述显示区域无机层的所述边缘,所述阴影区域位于所述基底上。
7.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述主要区域的边缘未延伸越过所述显示区域无机层的所述边缘,所述阴影区域接触所述显示区域无机层的侧表面。
8.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述阴影区域具有倾斜的侧表面。
9.根据权利要求5所述的显示装置,所述显示装置还包括与所述显示区域无机层分开的分开构件,
其中,所述包封无机层的所述阴影区域未延伸越过所述分开构件,所述阴影区域未比所述分开构件更接近所述基底的边缘。
10.根据权利要求9所述的显示装置,其特征在于,所述阴影区域接触所述分开构件的侧表面。
11.根据权利要求9所述的显示装置,其特征在于,所述阴影区域与所述分开构件的侧表面分开。
12.根据权利要求9所述的显示装置,其特征在于,所述分开构件包括与所述显示区域无机层的材料相同的材料。
13.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括介于所述基底与所述显示区域无机层之间的阻挡层。
14.根据权利要求13所述的显示装置,其特征在于,所述包封无机层的至少一个边缘延伸越过所述阻挡层的边缘。
15.根据权利要求13所述的显示装置,其特征在于,所述阻挡层的至少一个边缘延伸越过所述包封无机层的所述边缘。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的