[发明专利]一种对ITO膜进行刻蚀的刻蚀液有效
| 申请号： | 201510544291.5 | 申请日： | 2014-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN105038799B | 公开（公告）日： | 2017-12-12 |
| 发明（设计）人： | 李子考 | 申请（专利权）人： | 盐城华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00 |
| 代理公司： | 北京高航知识产权代理有限公司11530 | 代理人： | 赵永强 |
| 地址： | 224000 江苏省盐城市盐都*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 ito 进行 刻蚀 | ||
【权利要求书】：
1.一种对ITO膜进行刻蚀的刻蚀液，其是由以下重量组分配制得到：
1.5重量份的1,2-乙二磺酸，0.6重量份的三氟甲基磺酸，2.5重量份的亚乙基二胺四甲叉膦酸钠，7重量份的草酸，88.4重量份的蒸馏水。
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