[发明专利]使用光学数据监测射频发生器操作的系统、方法和设备

权利要求书

1.一种等离子体加工系统，其包括：

等离子体室，其具有等离子体区域和光学传感器，该等离子体区域与针对所述等离子体区域的光学传感器相关联，其中所述光学传感器被配置成采集来自所述等离子体区域的光学发射，并且所述光学传感器产生所述光学发射的输出传感器信号；

至少一个射频发生器，其通过匹配电路耦合至所述等离子体室；

射频定时系统，其耦合至所述至少一个射频发生器，其中所述射频定时系统被配置成产生定时参考信号；以及

系统控制器，其耦合至所述等离子体室、所述至少一个射频发生器、所述光学传感器、所述射频定时系统和所述匹配电路，所述系统控制器包括：

中央处理器；

存储系统；

成组的射频发生器设置；以及

光学脉冲等离子体分析器，

其中所述光学脉冲等离子体分析器被配置成接收来自所述光学传感器的所述输出传感器信号，并且被进一步配置成确定与由所述光学传感器采集的所述光学发射的幅值相对应的成组的幅值统计，其中为了确定所述成组的幅值统计，所述光学脉冲等离子体分析器被配置成：

将所述定时参考信号的状态分成多个时间间隔；

识别每个时间间隔的输出信号的幅值统计；和

将所述幅值统计与参考幅值统计比较并输出对应的反馈控制信号到所述至少一个射频发生器以控制所述至少一个射频发生器的设置从而调节与比较统计之间检测的差值对应的所述等离子体加工系统的参数。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述光学脉冲等离子体分析器还被配置成确定所述输出传感器信号的状态变化的定时，该确定是通过确定在选定的时间窗口Wd内的所述输出传感器信号的幅值在所述定时超过选定的设置点来实现的。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述选定的时间窗口是选定幅值相对于预触发平均幅值的偏移。

4.根据权利要求2所述的系统，其中所述选定的时间窗口被延迟所选定的时间延迟。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述光学脉冲等离子体分析器被配置成确定在选定的样本持续窗口内多个时间的所述输出传感器信号的幅值变化。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述

系统控制器包括耦合到所述光学脉冲等离子体分析器的存储系统，该存储系统用于存储所述时间间隔中的每一个间隔的所述输出传感器信号的幅值统计。

7.一种等离子体加工系统，其包括：

等离子体室，其具有光学传感器和与所述光学传感器相关联的等离子体区域，其中该光学传感器针对所述等离子体区域以采集光学发射，其中所述光学传感器被配置成当采集所述光学发射时产生输出传感器信号；

至少一个射频发生器，其通过匹配电路耦合至所述等离子体室，

射频定时系统，其被配置成产生定时参考信号；以及

系统控制器，其耦合至所述等离子体室、所述至少一个射频发生器、所述光学传感器、所述射频定时系统和所述匹配电路，

其中所述系统控制器包括中央处理器、存储系统、成组的射频发生器设置和光学脉冲等离子体分析器，其中所述光学脉冲等离子体分析器被配置成确定所述光学传感器信号的状态变化以及与由所述光学传感器采集的所述光学发射的幅值相对应的成组的幅值统计，其中为了确定所述成组的幅值统计，所述光学脉冲等离子体分析器被配置成：

将所述定时参考信号的状态分成多个时间间隔；

确定每个时间间隔的输出信号的幅值统计，和

将所述幅值统计与参考幅值统计比较并输出对应的反馈控制信号到所述至少一个射频发生器以控制所述至少一个射频发生器的设置从而调节与比较统计之间检测的差值对应的所述等离子体加工系统的参数。