[发明专利]一种齿科氧化锆修复体内冠的加工方法有效

专利信息
申请号: 201510548287.6 申请日: 2015-08-31
公开(公告)号: CN105030359A 公开(公告)日: 2015-11-11
发明(设计)人: 郭大鹏 申请(专利权)人: 北京赢冠义齿加工有限责任公司
主分类号: A61C13/083 分类号: A61C13/083;C04B41/91;C04B41/81
代理公司: 北京易正达专利代理有限责任公司 11518 代理人: 路远
地址: 100195 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 齿科 氧化锆 修复 体内 加工 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及义齿加工领域,尤其涉及一种齿科氧化锆修复体内冠的加工方法。

背景技术

现有市场上的氧化锆修复体繁多,在制作氧化锆修复体内冠时普遍以4轴联动切削设备对内冠进行切削,如遇基牙倒凹过大或共同就位道不佳时,会出现转角处无法切削的情况,因此直接导致烧结后的氧化锆内冠在基牙上无法完全就位,需要人工手动打磨后才能戴入,而人工手动打磨会降低内冠与基牙之间的紧密度,稳定性差。此外在处理氧化锆内冠的颜色时,目前采用的都是外染手段,即将染料附着在内冠表面后烧结,这种染色工艺染色不均匀,涂刷次数对最终修复体的颜色影响较大,生产出的氧化锆内冠色泽缺乏层次感,对整体外观颜色影响很大。

发明内容

本发明提供了一种齿科氧化锆修复体内冠的加工方法,提高了研磨精度,无需人工手动打磨,增加内冠与基牙之间的紧密度,整体色泽层次感强,外观美观,节省染色液的用量。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的:

一种齿科氧化锆修复体内冠的加工方法,其特征在于,该方法包括准备材料、设计图纸、内冠切削、内冠染色和烧结成型,具体如下:

(1)选择高品质的白色氧化锆体,在所述氧化锆体的待处理表面融附陶瓷层;

(2)根据基牙设计内冠的尺寸和形状,并绘制内冠的CAD图纸;

(3)根据所述图纸,采用5轴联动切削方式进行内冠切削;

(4)将切削完成后的内冠放入盛有染色液的圆桶中,浸泡5~10min,直至渗透内冠的染色液达到饱和;

(5)将染色后的内冠在1380~1500℃烧结1~2小时。

所述的步骤(3)还包括:采用直径为1mm的切削针对内冠转角处进行5轴联动研磨。

与现有技术相比,本发明至少具有以下优点:

通过上述本发明的技术方案,首先采用5轴联动切削方式进行切削,直径1.0mm的切削针对内冠转角处进行研磨,极大保证了切削研磨精度,使其在内冠转角处与基牙能完全紧密贴合,无需借助人工打磨就可以直接戴入。在烧结前将切削完成的内冠浸泡在染色液中,让染色液充分渗透氧化锆内冠直至饱和,烧结完成后的内冠色泽层次感强,整体美观度高,且较涂抹的方式更加节省染色液。本发明解决了普通4轴联动切削精度低,内冠表面染色单一的问题,增加内冠与基牙之间的紧密度,让氧化锆修复体色泽更有层次感。

附图说明

图1是本发明提供的一种齿科氧化锆修复体内冠加工方法的流程框图。

具体实施方式

下面将结合本发明中的附图,对本发明中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

如图1所示,为本发明实施例提出的一种齿科氧化锆修复体内冠的加工方法,该方法包括准备材料、设计图纸、内冠切削、内冠染色和烧结成型,具体如下:

(1)选择高品质的白色氧化锆体,在所述氧化锆体的待处理表面融附陶瓷层;

(2)根据基牙设计内冠的尺寸和形状,并绘制内冠的CAD图纸;

(3)根据所述图纸,采用5轴联动切削方式进行内冠切削;

(4)将切削完成后的内冠放入盛有染色液的圆桶中,浸泡5~10min,直至渗透内冠的染色液达到饱和;

(5)将染色后的内冠在1380~1500℃烧结1~2小时。

所述的步骤(3)还包括:采用直径为1mm的切削针对内冠转角处进行5轴联动研磨。

与现有技术相比,本发明至少具有以下优点:

通过上述本发明的技术方案,首先采用5轴联动切削方式进行切削,直径1.0mm的切削针对内冠转角处进行研磨,极大保证了切削研磨精度,使其在内冠转角处与基牙能完全紧密贴合,无需借助人工打磨就可以直接戴入。在烧结前将切削完成的内冠浸泡在染色液中,让染色液充分渗透氧化锆内冠直至饱和,烧结完成后的内冠色泽层次感强,整体美观度高,且较涂抹的方式更加节省染色液。本发明解决了普通4轴联动切削精度低,内冠表面染色单一的问题,增加内冠与基牙之间的紧密度,让氧化锆修复体色泽更有层次感。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。

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