[发明专利]通过镶嵌形成的装饰件

权利要求书

1.一种装饰件，所述装饰件包括由不具有可用的塑性变形的材料制成的支座(2)，在所述支座中设有至少一个空腔(4)，其特征在于，所述空腔由形成基底(6)的第一材料填充，在所述基底中设有至少一个壳腔(8)，所述至少一个壳腔设置成能在其中容纳至少一个美学元件(3)，所述基底还包含卡夹装置(5)，所述卡夹装置进行弹性变形以将所述至少一个美学元件保持在所述至少一个壳腔中，所述卡夹装置(5)还包括至少一个镶嵌元件(9)。

2.根据权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述至少一个镶嵌元件(9)采用柱或珠的形式。

3.根据权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述至少一个空腔包括用于改善各美学元件在支座中的保持的垂直的侧面(7)。

4.根据权利要求3所述的装饰件，其特征在于，所述至少一个空腔包括设置成使得所述空腔的表面随着所述空腔的深度而增加的侧面(7)。

5.根据权利要求3所述的装饰件，其特征在于，所述至少一个空腔包括设置成使得所述空腔的表面随着所述空腔的深度而减小的侧面。

6.根据权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述至少一个空腔包括从所述空腔的其中一个壁伸出的保持装置(5)，以将所述第一材料保持在所述空腔中。

7.根据权利要求6所述的装饰件，其特征在于，所述保持装置采用至少一个凹部(51)的形式。

8.根据权利要求6所述的装饰件，其特征在于，所述保持装置采用至少一个贯通凹部(51)的形式。

9.根据权利要求6所述的装饰件，其特征在于，所述保持装置采用至少一个突起(52)的形式。

10.根据权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述第一材料为金属材料。

11.根据权利要求10所述的装饰件，其特征在于，所述第一材料为至少部分非晶态的金属材料。

12.根据权利要求10所述的装饰件，其特征在于，所述第一材料为完全非晶态的金属材料。

13.根据权利要求10所述的装饰件，其特征在于，所述第一材料包括至少一种珍贵类型的元素，所述元素包含在以下列表中：金、铂、钯、铼、钌、铑、银、铱或锇。

14.根据权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述美学元件(3)和空腔(4)的一个边缘之间的距离为至少0.01mm。

15.根据权利要求1所述的装饰件，其特征在于，所述壳腔(8)的高度至少等于所述美学元件的底面部的高度。

16.一种用于在支座上镶嵌至少一个美学元件的方法，包括以下步骤：

a)取用设有至少一个空腔(4)的支座(2)；

b)取用至少一个美学元件(3)；

c)用第一材料填充所述空腔；

d)在所述第一材料中制成至少一个镶嵌孔(8)和卡夹装置(5)；

e)通过将所述至少一个美学元件放置在所述至少一个孔中并通过使所述卡夹装置(5)变形以保持所述美学元件，来镶嵌所述至少一个美学元件。

17.根据权利要求16所述的镶嵌方法，其特征在于，镶嵌步骤e)包括所述夹持装置(5)的弹性变形。

18.根据权利要求16所述的镶嵌方法，其特征在于，所述第一材料为金属材料。

19.根据权利要求18所述的镶嵌方法，其特征在于，所述第一材料包括至少一种珍贵类型的元素，所述元素包含在以下列表中：金、铂、钯、铼、钌、铑、银、铱或锇。

20.根据权利要求18所述的镶嵌方法，其特征在于，所述第一材料是至少部分非晶态的。

21.根据权利要求19所述的镶嵌方法，其特征在于，所述第一材料是至少部分非晶态的。

22.根据权利要求18所述的镶嵌方法，其特征在于，所述第一材料是完全非晶态的。

23.根据权利要求19所述的镶嵌方法，其特征在于，所述第一材料是完全非晶态的。

24.根据权利要求16所述的镶嵌方法，其特征在于，步骤c)包括通过电成型来沉积所述第一材料。