[发明专利]一种血液辐照仪

说明书

技术领域

本发明涉及医疗器械技术领域，尤其涉及一种单X射线源的血液辐照仪。

背景技术

输血相关性移植物抗宿主病(TA-GVHD)是免疫缺损或免疫抑制的患者不能清除输入血液中具有免疫活性的淋巴细胞，使其在体内植活、增殖，将患者的组织器官识别为非己物质，并作为靶目标进行免疫攻击、破坏的一种致命性输血并发症。TA-GVHD临床表现缺乏特异性，极易漏诊和误诊。

有研究表明引起TA-GVHD的受体输入淋巴细胞数量应大于10⁷/kg，如若低于10⁵/kg则不会引起TA-GVHD。但有报道对免疫缺陷的儿童仅10⁴/kg淋巴细胞即引发TA-GVHD。总之输入供体的淋巴细胞数量越多其病情越严重,死亡率也就越高。

目前认为输血前对血制品进行照射，是预防TA-GVHD惟一有效的方法。其机制是：淋巴细胞对射线敏感，通过适当剂量的射线照射，可使免疫活性淋巴细胞灭活，丧失增殖能力。而对红细胞、血小板的功能及凝血因子活性影响不大。现在发达国家应用率已达30％～40％。

血液辐照仪就是一种使用射线照射血液或制品，对淋巴细胞进行灭活，预防输血活动中TA-GVHD疾病(输血相关性移植物抗宿主病)的医疗设备。

从射线源分，血液辐照仪可以分为两类，一类是采用放射源(主要是Cs-137)产生的γ射线照射血液或制品；另一类是采用X光管产生的X射线照射血液或制品。其中，放射源型血液辐照仪设备需要装配几百到上千居里的同位素放射源，这存在着潜在的核泄漏风险。而X光源型血液辐照仪则没有核泄漏的风险，设备断电就没有任何射线产生。

不过，X光源型血液辐照仪存在X射线能量低、单源辐照不均匀的缺点，难于满足血液辐照仪标准中对辐射均匀性的要求(国标要求血液辐照仪辐照的非均匀性<20％)。普通X光源产生的X光子能量一般在200keV以下，它在照射血液或制品过程中，很容易被浅层的血液大量吸收，使得到达深处的X光子数量迅速减少。而放射源型血液辐照仪装配的同位素放射源一般是Cs-137和Co-60，它们放出的γ光子能量分别是662keV、1.17MeV和1.33MeV。这些γ光子的能量远远高于X光子的能量，其在血液或制品中的线性衰减系数要远小于X光子，所以其单源的辐照均匀性要远远优于X光源，如图1和图2所示。

为了克服单源辐照的缺点，业界提出了双源辐照的方案，通过在血液或制品上下两个方向各放置一个X光源，能够显著提高辐照的均匀性，如图3和图4所示。

虽然双X光源方案解决了单X光源辐照的均匀性问题，但是这种方案需要两套X射线源系统，使得系统的成本成倍增加。为了降低系统成本，同时保证X射线辐照的均匀性，一种新的单源X射线血液辐照仪设计方案在申请号为CN201410550120.9的中国专利申请中被提了出来。该方案利用腔体在转盘旋转中的位置移动，实现了血袋的上下表面被交替照射。如图5所示，比如在1的位置，X射线是从血袋下方入射，转到3的位置，就变成了从血袋上方入射。这样，与双源方案的辐照效果等效，但是辐照时间被迫成倍延长。

可知，虽然CN201410550120中的方案使得整机只需要一套X射线源系统即可，降低了血液辐照仪的成本，但是该方案的X射线利用率依然较低，且辐照时间成倍增加，将会导致X射线血液辐照仪的运营成本增加。

我们知道，在X射线管中，高能电子轰击阳极产生X射线的过程中，99％以上的能量将转化成热量，这些热量不但对辐照没有任何贡献，而且还需要冷却系统将其从阳极带出，否则X射线管会损害。在CN201410550120的方案中，血液或制品从1经过2到达3的过程中，由于空间的限制，血液或制品不可能紧密排列成一个圆环，许多X射线从血液或制品的上、下方逃逸，这使得X射线的利用率明显偏低，进而直接影响到了血液辐照仪的用电量、照射时间和照射效率。

发明内容

基于此，本发明提供一种血液辐照仪，以有效解决现有技术存在的问题。

一种血液辐照仪，其包括一个X射线源、多个用于放置血液或制品的容器及驱动每一个所述容器独立旋转的驱动器，所述多个容器环绕所述X射线源间隔设置，且每一个所述容器均面向所述X射线源。