[发明专利]提升光源均匀性的装置在审
申请号: | 201510565885.4 | 申请日: | 2015-09-08 |
公开(公告)号: | CN105156925A | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 邹美芳;姚毅;张利飞;刘朝朋 | 申请(专利权)人: | 凌云光技术集团有限责任公司 |
主分类号: | F21S2/00 | 分类号: | F21S2/00;F21V5/04;F21V5/08;F21V19/00;F21Y105/00 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 逯长明;许伟群 |
地址: | 100195 北京市海淀区杏石*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提升 光源 均匀 装置 | ||
1.一种提升光源均匀性的装置,其特征在于,包括组成光源的多个光源颗粒,多个所述光源颗粒设于同一平面且呈间隔设置,所述光源的一侧间隔设有位于同一平面的多个起汇聚作用的透镜,各所述光源颗粒与各透镜位置一一对应,所述透镜的直径或者边长小于或等于相邻两个透镜之间的距离。
2.如权利要求1所述的提升光源均匀性的装置,其特征在于,相邻所述光源颗粒之间的间距B满足:B=D+2X*tgA,其中D为光源颗粒经透镜后的光斑的直径或者边长,X为光源颗粒与检测物的距离,A为光源颗粒经过透镜后的半衰角。
3.如权利要求2所述的提升光源均匀性的装置,其特征在于,所述透镜与对应的光源颗粒的间距为所述透镜焦距的0.5-2倍。
4.如权利要求1所述的提升光源均匀性的装置,其特征在于,组成所述光源的多个光源颗粒安装于铝基板上,所述铝基板的相对两端焊接有正、负极焊点,多个所述光源颗粒通过导线相互连接并与正、负极焊点连接。
5.如权利要求4所述的提升光源均匀性的装置,其特征在于,组成所述光源的多个光源颗粒设置为至少一排。
6.如权利要求5所述的提升光源均匀性的装置,其特征在于,所述铝基板由多个铝基板块连接组成,多个所述光源颗粒固定于多个铝基板块上。
7.如权利要求4-6之一所述的提升光源均匀性的装置,其特征在于,多个所述透镜安装于架体的水平板上,所述铝基板设置于架体的一端且与水平板平行。
8.如权利要求1所述的提升光源均匀性的装置,其特征在于,还包括匀光板,所述匀光板设于多个透镜的另一侧,所述匀光板到光源的距离小于检测物到光源的距离,所述匀光板表面密布有多个微型凹槽或微型凸起。
9.如权利要求8所述的提升光源均匀性的装置,其特征在于,还包括起汇聚作用的光学元件,所述光学元件间隔设于多个透镜与匀光板之间。
10.如权利要求9所述的提升光源均匀性的装置,其特征在于,所述光学元件为汇聚棒或线性菲涅尔透镜,所述光学元件长度、宽度分别大于光源的长度、宽度。
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