[发明专利]处理装置及处理液的再利用方法有效
申请号: | 201510567320.X | 申请日: | 2015-09-08 |
公开(公告)号: | CN105428274B | 公开(公告)日: | 2019-01-01 |
发明(设计)人: | 平川雅章;松井绘美 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 白丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 再利用 方法 | ||
1.一种处理装置,其具备:
对含有磷酸、硅化合物和水的溶液进行透析的透析部;
使用经所述透析的溶液进行被处理物的处理的处理部;
将在所述被处理物的处理中使用过的溶液进行回收并供给至所述透析部的回收部;以及
对所述透析中使用的溶液按照温度达到80℃以上的方式进行控制的第1温度控制部,
其中,所述透析部具有使阴离子透过的透过部,
所述回收部将在所述被处理物的处理中使用过的溶液供给至通过所述透过部划分开的所述透析部内的区域。
2.根据权利要求1所述的处理装置,其中,所述透析部通过电渗析或扩散透析对所述溶液进行透析。
3.根据权利要求1所述的处理装置,其中,
所述透析部通过电渗析对所述溶液进行透析,
所述透过部设置在阴极电极与阳极电极之间,
所述回收部将在所述被处理物的处理中使用过的溶液供给至在所述阴极电极与所述透过部之间设置的所述透析部内的第1区域。
4.根据权利要求1所述的处理装置,其中,
所述回收部将在所述被处理物的处理中使用过的溶液供给至在阴极电极与所述透过部之间设置的所述透析部内的第1区域,
经所述透析的溶液从在阳极电极与所述透过部之间设置的所述透析部内的第2区域被供给至所述处理部。
5.根据权利要求3所述的处理装置,其进一步具备将所述透析中使用的溶液供给至在所述阳极电极与所述透过部之间设置的所述透析部内的第2区域的第1供给部。
6.根据权利要求5所述的处理装置,其中,经所述透析的溶液从所述第2区域被供给至所述处理部。
7.根据权利要求5所述的处理装置,其中,经所述透析的溶液在达到规定浓度之后,从所述第2区域被供给至所述处理部。
8.根据权利要求5所述的处理装置,其进一步具备对经所述透析的溶液进行收纳并供给至所述处理部的第2供给部。
9.根据权利要求8所述的处理装置,其进一步具备对所述被处理物的处理中使用过的溶液的温度进行控制的第2温度控制部。
10.根据权利要求9所述的处理装置,其进一步具备对经所述透析的溶液的温度进行控制的第3温度控制部。
11.一种处理装置,其具备:
使用含有磷酸和水的第1溶液进行被处理物的处理的处理部;
对所述被处理物的处理中使用过的第2溶液进行回收的回收部;
对所述第2溶液进行透析而生成第3溶液的透析部;以及
对待用于所述透析的溶液按照温度达到80℃以上的方式进行控制的第1温度控制部,
其中,所述透析部具有使阴离子透过的透过部,
所述回收部将所述第2溶液供给至通过所述透过部划分开的所述透析部内的区域,
所述处理部在所述第1溶液中添加所述第3溶液、进行所述被处理物的处理。
12.根据权利要求11所述的处理装置,其中,
所述透析部通过电渗析对所述第2溶液进行透析,
所述透过部设置在阴极电极与阳极电极之间,
所述回收部将所述第2溶液供给至在所述阴极电极与所述透过部之间设置的所述透析部内的第1区域。
13.根据权利要求11所述的处理装置,其中,
所述回收部将所述第2溶液供给至在阴极电极与所述透过部之间设置的所述透析部内的第1区域,
所述第3溶液从在阳极电极与所述透过部之间设置的所述透析部内的第2区域被供给至所述处理部。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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