[发明专利]荧光体及使用它的发光装置以及荧光体的制造方法有效
申请号: | 201510571449.8 | 申请日: | 2015-07-07 |
公开(公告)号: | CN105255493B | 公开(公告)日: | 2020-09-08 |
发明(设计)人: | 贺出贵史;细川昌治 | 申请(专利权)人: | 日亚化学工业株式会社 |
主分类号: | C09K11/79 | 分类号: | C09K11/79;H01L33/50 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 沈雪 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 使用 发光 装置 以及 制造 方法 | ||
1.通式LaxCeySi6Nz表示的荧光体,式中,2.75≤x≤2.81,0.12≤y≤0.15,10.97≤z≤11.17,其中,
含有10~10000ppm的Ba和/或Sr,
在400~510nm波长区域,存在激发强度为其最大值的70%的第一波长及第二波长,第二波长比第一波长长,且所述第一波长和所述第二波长之差为70nm以上,
所述荧光体的平均粒径为20~40μm。
2.根据权利要求1所述的荧光体,其中,
所述第一波长和所述第二波长之差为80nm以上。
3.根据权利要求1所述的荧光体,其中,
350~450nm波长区域的激发强度的最小值为400~510nm波长区域的激发强度的最大值的50%以上。
4.通式LaxCeySi6Nz表示的荧光体,式中,2.75≤x≤2.81,0.12≤y≤0.15,10.97≤z≤11.17,其中,
含有10~10000ppm的Ba和/或Sr,
350~450nm波长区域的激发强度的最小值为400~510nm波长区域的激发强度的最大值的50%以上,
所述荧光体的平均粒径为20~40μm。
5.根据权利要求1所述的荧光体,其中,
含有500~10000ppm的Ba和/或Sr。
6.根据权利要求4所述的荧光体,其中,
含有500~10000ppm的Ba和/或Sr。
7.根据权利要求1所述的荧光体,其中,
含有10~10000ppm的F。
8.根据权利要求4所述的荧光体,其中,
含有10~10000ppm的F。
9.一种发光装置,其具备:
在420~470nm的波长区域内具有发光峰值波长、且发出紫外区域至蓝色区域的光的激发光源、和权利要求1所述的荧光体。
10.一种发光装置,其具备:
在420~470nm的波长区域内具有发光峰值波长、且发出紫外区域至蓝色区域的光的激发光源、和权利要求4所述的荧光体。
11.通式LaxCeySi6Nz所示荧光体的制造方法,式中,2.75≤x≤2.81,0.12≤y≤0.15,10.97≤z≤11.17,
该方法包含下述工序:
称量La、Ce及Si的单质、氧化物、氮化物、碳酸盐、磷酸盐、硅酸盐或卤化物,使得La、Ce及Si达到所述荧光体组成的化学计量比,通过与作为助熔剂的至少BaF2和/或SrF2一起粉碎及混合,得到原料混合物的工序;
在还原气体氛围下焙烧所述原料混合物,得到焙烧物的工序;
粉碎所述焙烧物,得到平均粒径为20~40μm的粉末状的荧光体的工序。
12.根据权利要求11所述的方法,其中,
所述原料混合物中助熔剂的含量为0.01~15.0重量%。
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