[发明专利]荧光体及使用它的发光装置以及荧光体的制造方法有效

专利信息
申请号: 201510571449.8 申请日: 2015-07-07
公开(公告)号: CN105255493B 公开(公告)日: 2020-09-08
发明(设计)人: 贺出贵史;细川昌治 申请(专利权)人: 日亚化学工业株式会社
主分类号: C09K11/79 分类号: C09K11/79;H01L33/50
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 沈雪
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 荧光 使用 发光 装置 以及 制造 方法
【权利要求书】:

1.通式LaxCeySi6Nz表示的荧光体,式中,2.75≤x≤2.81,0.12≤y≤0.15,10.97≤z≤11.17,其中,

含有10~10000ppm的Ba和/或Sr,

在400~510nm波长区域,存在激发强度为其最大值的70%的第一波长及第二波长,第二波长比第一波长长,且所述第一波长和所述第二波长之差为70nm以上,

所述荧光体的平均粒径为20~40μm。

2.根据权利要求1所述的荧光体,其中,

所述第一波长和所述第二波长之差为80nm以上。

3.根据权利要求1所述的荧光体,其中,

350~450nm波长区域的激发强度的最小值为400~510nm波长区域的激发强度的最大值的50%以上。

4.通式LaxCeySi6Nz表示的荧光体,式中,2.75≤x≤2.81,0.12≤y≤0.15,10.97≤z≤11.17,其中,

含有10~10000ppm的Ba和/或Sr,

350~450nm波长区域的激发强度的最小值为400~510nm波长区域的激发强度的最大值的50%以上,

所述荧光体的平均粒径为20~40μm。

5.根据权利要求1所述的荧光体,其中,

含有500~10000ppm的Ba和/或Sr。

6.根据权利要求4所述的荧光体,其中,

含有500~10000ppm的Ba和/或Sr。

7.根据权利要求1所述的荧光体,其中,

含有10~10000ppm的F。

8.根据权利要求4所述的荧光体,其中,

含有10~10000ppm的F。

9.一种发光装置,其具备:

在420~470nm的波长区域内具有发光峰值波长、且发出紫外区域至蓝色区域的光的激发光源、和权利要求1所述的荧光体。

10.一种发光装置,其具备:

在420~470nm的波长区域内具有发光峰值波长、且发出紫外区域至蓝色区域的光的激发光源、和权利要求4所述的荧光体。

11.通式LaxCeySi6Nz所示荧光体的制造方法,式中,2.75≤x≤2.81,0.12≤y≤0.15,10.97≤z≤11.17,

该方法包含下述工序:

称量La、Ce及Si的单质、氧化物、氮化物、碳酸盐、磷酸盐、硅酸盐或卤化物,使得La、Ce及Si达到所述荧光体组成的化学计量比,通过与作为助熔剂的至少BaF2和/或SrF2一起粉碎及混合,得到原料混合物的工序;

在还原气体氛围下焙烧所述原料混合物,得到焙烧物的工序;

粉碎所述焙烧物,得到平均粒径为20~40μm的粉末状的荧光体的工序。

12.根据权利要求11所述的方法,其中,

所述原料混合物中助熔剂的含量为0.01~15.0重量%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日亚化学工业株式会社,未经日亚化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510571449.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top