[发明专利]一种彩膜基板及其制造方法在审
申请号: | 201510571996.6 | 申请日: | 2015-09-09 |
公开(公告)号: | CN105116596A | 公开(公告)日: | 2015-12-02 |
发明(设计)人: | 许勇 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司;武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
【技术领域】
本发明涉及液晶显示屏技术领域,特别涉及一种彩膜基板及其制造方法。
【背景技术】
随着时代的发展,液晶显示技术的发展也越来越快,具有高迁移率,高开口率的多晶硅技术逐渐取代了传统的非晶硅技术,受到大家的普遍欢迎。但是多晶硅技术的制程非常复杂,生产起来比较困难。比如现有技术的液晶显示面板的彩膜基板的生产就比较复杂,需要光罩的道数较多,这是因为现有技术的这种彩膜基板需要先在玻璃基板上形成一层黑色矩阵来遮光,不然就会使得不同色阻之间的衔接处即遮光区域出现漏光现象,降低液晶显示面板的显示效果。但是现有技术的这种先在玻璃基板上形成黑色矩阵的做法,不仅增加了彩膜基板制造工艺的光罩道数,多使用了制造黑色矩阵的材料,使得制造工艺比较复杂,而且黑色矩阵的遮光效果也不是很好,常常出现小范围的漏光现象。现有技术的这种问题急需解决。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种彩膜基板,该彩膜基板的结构可以替代黑色矩阵,起到遮光的效果。本发明还提供了一种彩膜基板的制造方法,该制造方法可以减少制造彩膜基板的光罩道数。
本发明的技术方案如下:
一种彩膜基板,包括:
一玻璃基板;
彩色滤光层,形成于所述玻璃基板上;以及
一平坦层,形成于所述彩色滤光层上;
其中,所述玻璃基板设有遮光区域与透光区域,所述彩色滤光层包括形成于所述玻璃基板上的第一色阻层、第二色阻层、第三色阻层、第一遮光层以及第二遮光层,所述第一遮光层覆盖在所述遮光区域上,所述第二遮光层覆盖在所述第一遮光层上,所述第一遮光层与所述第二遮光层形成重叠遮光层,所述重叠遮光层用于遮光,所述第一色阻层、所述第二色阻层与所述第三色阻层覆盖所述透光区域,所述第一色阻层、所述第二色阻层以及所述第三色阻层相互之间均不重叠,所述遮光区域为所述第一色阻层、所述第二色阻层与所述第三色阻层两两相邻之间的区域,所述透光区域为所述遮光区域之外的区域。
优选地,所述第一遮光层或所述第二遮光层的制作材料与所述第一色阻层、所述第二色阻层及所述第三色阻层中的一个所述色阻层的制作材料相同,且所述第一遮光层的制作材料与所述第二遮光层的制作材料不同。
优选地,所述第一色阻层、所述第二色阻层及所述第三色阻层的颜色两两不相同,且它们的颜色分别为红色、绿色与蓝色中的一种。
优选地,所述第一色阻层、所述第二色阻层与所述第三色阻层的其中两个色阻层的厚度相同,其余一个色阻层的厚度大于厚度相同的两个色阻层的厚度。
优选地,所述第一遮光层的厚度与厚度相同的两个色阻层的厚度相同,所述第一遮光层的厚度与所述第二遮光层的厚度之和等于厚度较大的色阻层的厚度。
优选地,在所述平坦层上形成有衬垫,所述衬垫立于所述遮光区域对应处。
一种彩膜基板的制造方法,包括:
在玻璃基板上依次形成第一色阻层、第二色阻层与第三色阻层,且所述第一色阻层、所述第二色阻层与所述第三色阻层覆盖所述玻璃基板的透光区域;
其中,在形成所述第一色阻层与形成所述第二色阻层时,所述第一色阻层或所述第二色阻层中的一个所述色阻层的一部分覆盖在所述玻璃基板的遮光区域上形成第一遮光层,在形成所述第三色阻层时,所述第三色阻层的一部分覆盖在所述第一遮光层上形成第二遮光层,所述遮光区域为所述第一色阻层、所述第二色阻层与所述第三色阻层两两相邻之间的区域,所述透光区域为所述遮光区域之外的区域。
优选地,所述第一色阻层、所述第二色阻层及所述第三色阻层的颜色两两不相同,且它们的颜色分别为红色、绿色与蓝色中的一种。
优选地,还包括:在所述玻璃基板上形成平坦层,所述平坦层覆盖所述第一色阻层、所述第二色阻层、所述第三色阻层、所述第一遮光层及所述第二遮光层。
优选地,所述步骤还包括,在所述平坦层上形成衬垫,所述衬垫立于所述遮光区域对应处。
本发明的有益效果:
本发明的一种彩膜基板,采用了两种不同颜色的色阻层叠加的结构,可以替代黑色矩阵,起到遮光的效果。本发明的一种彩膜基板的制造方法,该制造方法取消了黑色矩阵的制造,可以减少制造彩膜基板的光罩道数,同时也起到了很好的遮光作用。
【附图说明】
图1为本发明的一种彩膜基板的截面结构示意图;
图2为本发明的一种彩膜基板的制造方法流程图。
【具体实施方式】
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司;武汉华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司;武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510571996.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。