[发明专利]通过在空间上和/或在时间上改变采样模式增强抗锯齿

说明书

本发明公开了通过在空间上和/或在时间上改变采样模式增强抗锯齿的技术。光栅单元配置为针对给定帧内的相邻像素生成不同的采样模式。此外，光栅单元可以调整帧之间的采样模式。光栅单元包括索引单元，其选择采样模式表用于当前帧使用。对于给定像素，索引单元从所选择的采样模式表中提取采样模式。所提取的采样模式用来生成用于像素的覆盖信息。用于所有像素的覆盖信息随后用来生成图像。结果图像可随后被滤波以较少或移除由采样位置的改变所引起的伪影。

技术领域

本发明的实施例总地涉及图形处理，并且更具体地，涉及通过在空间上和/或在时间上改变采样模式(sample pattern)增强抗锯齿。

背景技术

在图形处理管线中，光栅化器典型地负责基于与图形场景相关联的几何体计算用于像素的覆盖信息。例如，针对给定像素，光栅化器可以确定图形场景中的三角形覆盖该像素。于是稍后在管线中，可以基于三角形的颜色为像素着色。光栅化器通过确定几何体是否在像素内的一个或多个覆盖采样位置处覆盖像素来计算用于像素的覆盖信息。

在采样配置中，通过测试几何体是否覆盖像素的中心来确定覆盖，此处使用像素的中心作为覆盖采样位置。然而，这种形式的采样可能不准确，尤其是对于复杂的形状。因此，现代着色器常采用多采样方法，其中在多个不同的覆盖采样位置处测试像素内的覆盖。多个采样的位置通常是固定的并且从像素到像素是完全相同的，以反映已在经验上被确定为针对一系列图形场景产生准确覆盖信息的具体采样模式。

上述方法的一个缺点是经由常规多采样产生的图像的质量依赖于每像素所使用的采样位置的数目。因此，为了生成较高质量的图像，必须实现较多的采样位置。然而，这些附加的采样位置引发显著的开销。特别地，必须分配附加的帧缓冲空间以容纳颜色、z数据、以及与附加采样相关联的其他类型的信息。总之，图像的质量以及必备的开销随着采样的数目而变化。

如前所述，本领域需要用于在不导致与增加每像素的采样数目相关联的开销的情况下提高图像质量的技术。

发明内容

本发明的一个实施例阐述图形子系统，该图形子系统包括第一采样模式表和索引单元，其中第一采样模式表包括第一多个条目，并且索引单元配置为生成到第一采样模式表的第一索引，第一索引引用第一多个条目中所包括的条目的第一子集；以及从第一采样模式表中提取条目的第一子集，其中条目的第一子集中所包括的第一条目指示第一帧的第一像素内的第一位置，第一样本将在第一位置处生成。

所公开的技术的至少一个优点是仅采用每像素N/M个采样位置，就可以跨M个帧生成N个覆盖样本，这产生具有看上去与每像素N个覆盖样本一致的质量的图像。

附图说明

因此，可以详细地理解本发明的上述特征，并且可以参考实施例得到对如上面所简要概括的本发明更具体的描述，其中一些实施例在附图中示出。然而，应当注意的是，附图仅示出了本发明的典型实施例，因此不应被认为是对其范围的限制，本发明可以具有其他等效的实施例。

图1是示出了配置为实现本发明的一个或多个方面的计算机系统的框图；

图2是根据本发明的一个实施例的、图1的并行处理子系统中所包括的并行处理单元的框图；

图3A是根据本发明的一个实施例的、图2的并行处理单元中所包括的的通用处理集群的框图；

图3B是根据本发明的一个实施例的、可在图2的并行处理单元内实现的图形处理管线的概念图；

图4是根据本发明的一个实施例的、图3B的图形处理管线可经配置以生成并处理的高速缓存块的概念图；

图5是根据本发明的一个实施例的、更详细示出图3B的光栅单元的框图；

图6A-6B是根据本发明的各实施例的、图5的光栅单元在生成采样模式时所实施的操作的概念图；