[发明专利]等离子体处理装置用的部件和部件的制造方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置用的部件的制造方法，其特征在于，包括：

对通过喷镀形成被膜的基底的表面进行表面调整的工序，该基底的表面包括基材的表面或形成于该基材的表面的层的表面；和

通过氟化钇的喷镀，在所述表面上形成被膜的工序，

在形成所述被膜的工序中，使用高速火焰喷镀法或大气压等离子体喷镀法，

在形成所述被膜的工序中，在沿着高速火焰喷镀法中放出火焰的喷镀枪的喷嘴、或者大气压等离子体喷镀法中放出等离子体射流的喷镀枪的喷嘴的中心轴线的方向，向从该喷镀枪的喷嘴向下游侧远离的位置或者该喷镀枪的喷嘴的前端位置，供给包含具有1μm以上8μm以下的平均粒径的氟化钇颗粒的浆料，

在形成所述被膜的工序中采用高速火焰喷镀法，供给所述浆料的位置为在沿着所述中心轴线的方向上距离所述喷嘴的前端0mm以上100mm以下的范围的位置，或者，在形成所述被膜的工序中采用大气压等离子体喷镀法，供给所述浆料的位置为在沿着所述中心轴线的方向上距离所述喷嘴的前端0mm以上30mm以下的范围的位置，

在形成所述被膜的工序中，供给所述浆料的浆料供给用喷嘴的中心轴线相对于所述喷镀枪的喷嘴的所述中心轴线、在该喷镀枪的喷嘴的前端侧所成的角度为45度以上135度以下。

2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：

在形成所述被膜的工序中，所述基材的温度设定为100℃以上300℃以下的温度。

3.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：

还包括在所述基材与所述被膜之间形成氧化钇制的第一中间层的工序。

4.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于：

还包括对所述第一中间层的包括边缘的区域进行掩蔽的工序，

在包括所述边缘的区域在所述掩蔽工序中被掩蔽的状态下，执行形成所述被膜的所述工序。

5.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于：

还包括在所述第一中间层与所述被膜之间形成第二中间层的工序。

6.如权利要求5所述的制造方法，其特征在于：

所述第二中间层具有所述第一中间层的线膨胀系数与所述被膜的线膨胀系数之间的线膨胀系数。

7.如权利要求6所述的制造方法，其特征在于：

所述第二中间层由氧化钇稳定化氧化锆喷镀被膜或镁橄榄石喷镀被膜构成。

8.如权利要求5所述的制造方法，其特征在于：

所述第二中间层由氧化铝喷镀被膜或灰色氧化铝喷镀被膜构成，所述灰色氧化铝是氧化铝－2.5％二氧化钛。

9.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于：

还包括在所述基材与所述第一中间层之间形成其他的中间层的工序。

10.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于：

所述其他的中间层由氧化铝喷镀被膜或灰色氧化铝喷镀被膜构成，所述灰色氧化铝是氧化铝－2.5％二氧化钛。

11.如权利要求1～10中任一项所述的制造方法，其特征在于：

还包括在所述基材的表面形成耐酸铝膜的工序。